[发明专利]一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺

说明书

本发明涉及一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，将需要喷淋的硅晶圆取出放置于摇摆机构下方的放置槽内，所述硅晶圆的正面朝向喷淋头；在所述摇摆机构的带动下所述喷淋头开始在所述硅晶圆上方做往复运动，所述摇摆机构带动所述喷淋头往复运动的速度为30±5次/分钟，所述喷淋头喷淋的水雾具体呈扇形；进一步的所述喷淋头开始向所述硅晶圆喷淋水，所述喷淋头喷出水的流量具体为1升/分钟，所述喷淋头喷出水的水压具体为0.3±0.05MPa；当喷淋一段时间后停止喷淋工序，将硅晶圆取走放置于指定位置处工作结束。本发明提供一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，提高了喷淋效率，提高了硅晶圆的润湿效果，提高了后段电镀的品质。

技术领域

本发明涉及硅晶圆生产领域，具体涉及一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺。

背景技术

硅晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，在生产过程中需要对硅晶圆进行电镀工序，在电镀工序前需要将硅晶圆上的浅孔润湿，方便药水进入浅孔内，最终确保在浅孔内电镀上铜，从而保证硅晶圆可以正常使用。

现在在对硅晶圆直接进行电镀工艺之前首先需要对硅晶圆进行喷淋，但是硅晶圆上面有几十万个浅孔，在喷淋过程中由于水的本身特性，水不能进入部分浅孔内，对硅晶圆的润湿效果差，影响了后续电镀工艺的品质。

发明内容

本发明的目的是：提供一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，解决以上问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下的技术方案：

一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，其特征在于：其制作方法为：

a)首先将需要喷淋的硅晶圆取出放置于摇摆机构下方的放置槽内，所述硅晶圆的正面朝向喷淋头；

b)在所述摇摆机构的带动下所述喷淋头开始在所述硅晶圆上方做往复运动，所述摇摆机构带动所述喷淋头往复运动的速度为30±5次/分钟，所述喷淋头喷淋的水雾具体呈扇形；

c)进一步的所述喷淋头开始向所述硅晶圆喷淋水，所述喷淋头喷出水的流量具体为1升/分钟，所述喷淋头喷出水的水压具体为0.3±0.05MPa；

d)当喷淋一段时间后停止喷淋工序，将硅晶圆取走放置于指定位置处工作结束。

进一步的，所述喷淋头有多个，所述喷淋头的喷淋时间具体为60s，所述喷淋头喷出的水的温度具体为25±2摄氏度。

进一步的，所述喷淋头与硅晶圆的夹角具体为垂直90度，所述喷淋头喷水时在摇摆机构的带动下所述喷淋头的行程具体为30±1mm。

本发明的有益效果为：提供一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，通过摇摆机构在喷淋过程中带动喷淋头做往复运动，进而确保喷淋头喷淋的水相对于硅晶圆的角度不断的变化，实现硅晶圆上的孔内全部被喷淋上水的效果，提高了喷淋效率，提高了硅晶圆的润湿效果，提高了后段电镀的品质。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下对本发明作进一步的详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

一种晶圆电镀前处理用摇摆喷淋工艺，其特征在于：其制作方法为：

a)首先将需要喷淋的硅晶圆取出放置于摇摆机构下方的放置槽内，所述硅晶圆的正面朝向喷淋头，即硅晶圆上的浅孔朝向摇摆机构的喷淋头；

b)在所述摇摆机构的带动下所述喷淋头开始在所述硅晶圆上方做往复运动，此时硅晶圆上的浅孔与喷淋头喷淋的水雾之间的相对角度不断在发生变化，所述摇摆机构带动所述喷淋头往复运动的速度为30±5次/分钟，用于增加喷淋的次数，所述喷淋头喷淋的水雾具体呈扇形，用于确保喷淋头喷淋的水雾的角度范围大，进而在喷淋头运动过程中浅孔接收多个角度的水雾；