[发明专利]一种间歇式连续研磨系统及方法

权利要求书

1.一种间歇式连续研磨系统，其特征在于，包括密封状态的研磨筒内设有与驱动轴连接的分散器和通过驱动轴驱动分散器将研磨筒内的物料和研磨球形成研磨分散场的驱动电机，以及控制驱动电机工作的控制器，所述研磨筒还设有产生等离子体的介质和对研磨分散场区域内介质形成等离子场的等离子体发生器，其中等离子场和研磨分散场存在叠加区域形成复合研磨场，所述研磨系统还包括控制驱动电机和等离子体发生器工作的控制器，以及在消除等离子场和研磨分散场后对研磨筒内物料排出的出料机构。

2.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述等离子体发生器包括DBD等离子体电源，该DBD等离子体电源的阳极分布于研磨筒内壁呈筒状结构，阴极设置于分离器表面或分离器内部，所述等离子场位于DBD等离子体电源的阳极和阴极之间。

3.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述等离子体发生器包括DBD等离子体电源，该DBD等离子体电源的阴极设置于分离器内部，该DBD等离子体电源的阳极设于研磨筒内侧或分离器表面。

4.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述介质为单一气体。

5.根据权利要求4所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述单一气体包括氩气、氮气、CO₂。

6.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述球磨系统还包括对研磨筒进行散热的散热装置，该散热装置包括在研磨筒侧面设有与水冷器连接的水冷回路。

7.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述研磨筒还设有检测研磨筒内压力的压力传感器和控制研磨筒内压力平衡的压力补偿机构，以及与压力传感器和压力补偿机构信号连接的控制器，当压力传感器检测到研磨筒内压力增加时，压力补偿机构在控制器控制下处于泄压至预设值，当压力低于预设值压力补偿机构向研磨筒内补充与研磨筒内一致的气体。

8.根据权利要求7所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述压力补偿装置包括控制研磨筒压力的电磁阀和配合电磁阀工作的气泵，以及与气泵连接的气体储存容器。

9.根据权利要求8所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述研磨筒内压力为0.8－0.9个标准大气压。

10.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述出料机构包括与研磨筒连接受控制器控制的风机和与出料口连接的收料筒。

11.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述球磨系统还包括对研磨筒内研磨介质进行观察的可视化观察机构。

12.根据权利要求11所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述可视化观察机构包括与研磨筒连接的观察筒，在该观察筒内设有透明介质。

13.根据权利要求1所述的间歇式连续研磨系统，其特征在于：所述研磨筒与进料口之间设有进料器，该进料器表面设有螺旋进料槽。

14.间歇式连续研磨方法，包括，

建立研磨分散场步骤，使物料和研磨介质在研磨腔内处于高速分散的机械运动状态；

研磨分散场内建立研磨复合场步骤，使密封的研磨腔内介质形成等离子体，并在研磨分散场内叠加建立由等离子体形成的等离子场，形成研磨复合场；

排料步骤，当等离子场和研磨分散场消失后，向将研磨完成的研磨筒内注入流动的空气，通过气流为物料运动提供动力，排出物料；

添加物料步骤，向研磨腔内注入待研磨的物料后，建立研磨分散场和等离子场，形成研磨复合场。