[发明专利]一种间歇式连续研磨系统及方法

说明书

本发明适用于球磨技术领域。本发明公开一种间歇式连续研磨系统及方法，其中间歇式连续研磨系统包括密封状态的研磨筒内设有与驱动轴连接的分散器和通过驱动轴驱动分散器将物料和研磨球形成研磨分散场的驱动电机，在所述研磨分散场区域形成等离子场的等离子体发生器，其中等离子场和研磨分散场叠加区域形复合研磨场，所述研磨系统还包括控制器和出料机构。当研磨完成后使等离子场和研磨分散场消失，并通过出料机构排出物料，再注入物料重复研磨过程。研磨时分散装置，处于等离子场和研磨分散场叠加的复合研磨场时，物料既与研磨介质间有机械作用，又能充分与等离子体间作用共同作用下，大幅度提高研磨的效率。

技术领域

本发明涉及一种球磨技术领域，特别涉及一种间歇式连续研磨系统及方法。

背景技术

现有研磨系统通常两种研磨环境，一是湿法研磨，二是干法研磨，无论哪种研磨都是通过研磨介质与物料接触碰撞达到需要的大小，其中研磨介质通常采用研磨球，如锆球等，该研磨介质通常是根据研磨物料选择适当的材质的研磨球来研磨。

由于采用湿法研磨存在一个重要缺陷，研磨的物料输出后不能直接使用，需要后续工艺对液体如水份去除，如脱水工艺等，且脱水后超细物料容易形成团聚，形成较大的团状结构，需要再次对团状结构进行分散，增加工艺难度，降低生产效率。而采用干法研磨，输出的物料可以直接使用，也不会产生团聚现象。

目前干法研磨通过使物料和研磨介质产生运动，并在运动中产生接触碰撞，从而实现粉碎研磨。然而，介质和物料的运动速度受外部动力限制，不可能无限增大，同时研磨过程都是通过介质与物料间的机械力作用，研磨机制单一，从而导致其研磨的效率低。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种间歇式连续研磨系统及方法，该间歇式连续研磨系统可以提高研磨效率。

为了解决上述问题，本发明提供一种间歇式连续研磨系统，该间歇式连续研磨系统包括密封状态的研磨筒内设有与驱动轴连接的分散器和通过驱动轴驱动分散器将研磨筒内的物料和研磨球形成研磨分散场的驱动电机，以及控制驱动电机工作的控制器，所述研磨筒还设有产生等离子体的介质和对研磨分散场区域内介质形成等离子场的等离子体发生器，其中等离子场和研磨分散场存在叠加区域形成复合研磨场，所述研磨系统还包括控制驱动电机和等离子体发生器工作的控制器，以及在消除等离子场和研磨分散场后对研磨筒内物料排出的出料机构。

进一步地说，所述等离子体发生器包括DBD等离子体电源，该DBD 等离子体电源的阳极分布于研磨筒内壁呈筒状结构，阴极设置于分离器表面或分离器内部，所述等离子场位于DBD等离子体电源的阳极和阴极之间。

所述等离子体发生器包括DBD等离子体电源，该DBD等离子体电源的阴极设置于分离器内部，该DBD等离子体电源的阳极设于研磨筒内侧或分离器表面。

进一步地说，所述介质为单一气体。

进一步地说，所述单一气体包括氩气、氮气、CO₂。

进一步地说,所述球磨系统还包括对研磨筒进行散热的散热装置。

进一步地说,所述散热装置包括在研磨筒侧面设有与水冷器连接的水冷回路。

进一步地说,所述研磨筒还设有检测研磨筒内压力的压力传感器和控制研磨筒内压力平衡的压力补偿装置，以及与压力传感器和压力补偿装置信号连接的控制器，当压力传感器检测到研磨筒内压力增加时，压力补偿装置在控制器控制下处于泄压至预设值，当压力低于预设值压力补偿装置向研磨筒内补充与研磨筒气体一致的气体。

进一步地说,所述压力补偿装置包括控制与研磨筒连接的压力补偿管路的电磁阀和配合电磁阀工作的气泵。

进一步地说,所述研磨筒内压力小于一个标准大气压。