[发明专利]金属内连线结构及其制作方法在审
申请号: | 202011082669.1 | 申请日: | 2018-08-16 |
公开(公告)号: | CN112435983A | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 周逸豪;傅子豪;谢宗殷;张志圣;蔡世群;何坤展;林泱佐 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522;H01L23/532;H01L21/768 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 连线 结构 及其 制作方法 | ||
1.一种金属内连线结构,其特征在于,包含:
第一金属内连线,设于基底上的金属间介电层内,其中该第一金属内连线上表面切齐该金属间介电层上表面;
第二金属内连线,设于该第一金属内连线上;以及
遮盖层,设于该第一金属内连线以及该第二金属内连线之间,其中该遮盖层包含导电层以及U形接触该第一金属内连线以及该第二金属内连线。
2.如权利要求1所述的金属内连线结构,其中该遮盖层包含第一厚度于该第一金属内连线以及该第二金属内连线之间以及第二厚度于该第一厚度两侧。
3.如权利要求2所述的金属内连线结构,其中该第二厚度大于该第一厚度。
4.如权利要求2所述的金属内连线结构,其中该遮盖层包含第三厚度位于该第二厚度两侧。
5.如权利要求4所述的金属内连线结构,其中该第三厚度大于该第二厚度。
6.如权利要求1所述的金属内连线结构,其中该第二金属内连线包含:
阻障层,接触该遮盖层;
衬垫层,设于该阻障层上;以及
金属层,设于该衬垫层上。
7.如权利要求6所述的金属内连线结构,其中该阻障层以及该衬垫层为U形。
8.如权利要求6所述的金属内连线结构,其中该遮盖层以及该衬垫层包含相同材料。
9.如权利要求6所述的金属内连线结构,其中该遮盖层以及该衬垫层包含钴。
10.如权利要求1所述的金属内连线结构,另包含气孔,设于该遮盖层内。
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