[发明专利]气体放电光源中的气体混合物控制

说明书

本公开涉及气体放电光源中的气体混合物控制。气体放电光源包括气体放电系统，其包括一个或多个气体放电室。气体放电系统中的每个气体放电室填充有相应的气体混合物。对于每个气体放电室，通过激活其相关联的能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，从而从气体放电室产生脉冲放大的光束。确定气体放电系统的一个或多个属性。基于确定的气体放电系统的一个或多个属性，从多个可能的方案中选择气体维护方案。选择的气体维护方案被应用于气体放电系统。气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体放电系统的气体放电室有关的一个或多个参数。

本申请是国际申请号为PCT/US2016/060680、国际申请日为2016年11月04日、优先权日为2016年1月8日/2016年4月19日、进入中国国家阶段日期为2018年8月3日、中国国家申请号为201680081010.X的发明专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年1月8日提交的题为“气体放电光源中的气体混合物控制(GASMIXTURE CONTROL IN A GAS DISCHARGE LIGHT SOURCE)”的美国临时申请No.62/276,522的权益，该临时申请通过引用被整体并入本文。

技术领域

本公开的主题涉及对于产生脉冲光束的气体放电光源中的气体混合物的控制。

背景技术

在光刻中使用的一类气体放电光源被称为准分子光源或激光器。准分子激光器通常使用稀有气体(诸如氩气、氪气或氙气)和活性物(诸如氟或氯)的组合。准分子激光器的名称源于这样的事实，即在(能量供应的)电刺激和(气体混合物的)高压的适当条件下创建了被称为准分子的伪分子(pseudo-molecule)，该伪分子仅存在于通电状态并且在紫外线范围内产生放大的光。

准分子光源被用于光刻机中。准分子光源产生深紫外(deep ultraviolet，DUV)光。可以使用单个气体放电室或使用多个气体放电室来构建准分子光源。

发明内容

在一些总体方面，气体放电光源包括气体放电系统，该气体放电系统包括一个或多个气体放电室，每个气体放电室容纳能量源。对气体放电光源进行操作。气体放电系统中的每个气体放电室填充有相应的气体混合物。对于每个气体放电室，通过激活其能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，以由此从气体放电室产生脉冲放大的光束。确定气体放电系统的一个或多个属性。基于确定的气体放电系统的一个或多个属性，从多个可能的方案中选择气体维护方案。选择的气体维护方案被应用于气体放电系统。气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体放电系统的气体放电室有关的一个或多个参数。

实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，气体放电系统的一个或多个属性可以通过确定气体放电系统中的每个气体放电室的一个或多个属性来确定。

可以通过将选择的气体维护方案应用于气体放电系统的每个气体放电室来将选择的气体维护方案应用于该气体放电系统。

气体放电系统可以包括两个气体放电室。

可以通过利用增益介质和缓冲气体的混合物填充气体放电室来将气体放电室填充有相应的气体混合物。可以通过利用包括稀有气体和卤素的增益介质以及包括惰性气体的缓冲气体填充气体放电室来将气体放电室填充有增益介质和缓冲气体的混合物。稀有气体可包括氩气、氪气或氙气；卤素可以包括氟；并且惰性气体可以包括氦气或氖气。

可以通过向气体放电室内的成对电极施加脉冲电压来激活其能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，从而对气体混合物内的卤素施加电刺激。

气体放电系统的一个或多个属性可以通过基于以下各项中的一项或多项来确定气体放电系统的至少一个气体放电室的使用年限来确定：已经利用气体混合物填充气体放电室的次数、以及该气体放电室的能量源已经被激活的频次。