[发明专利]一种转移构件及其制备方法、转移头

说明书

本发明涉及一种转移构件及其制备方法、转移头。该方法包括在衬底表面设置弹性胶层，并在弹性胶层上设置包括镂空区域的掩膜版，然后并透过掩膜版对弹性胶层进行蚀刻，相较于蚀刻蓝宝石基板，蚀刻弹性胶层要容易得多。而且，只要弹性胶层设置得足够厚，就可以蚀刻出较高深宽比的转移构件，能够满足各种器件的转移要求。另外，因为转移构件粘附待转移器件的面并不是蚀刻面，其具有较高的平整度，粘附性强，器件转移效果佳。而且，由于制备过程中不涉及翻模，不必面临脱模困难的问题。所以，本申请所提供的转移构件的制备方法不仅制备工艺难度低，而且所制得的转移构件品质优良，符合器件转移需求，有利于提升器件巨量转移的效率和良率。

技术领域

本发明涉及巨量转移领域，尤其涉及一种转移构件及其制备方法、转移头。

背景技术

PDMS Stamp(聚二甲基硅氧烷印章)是用于巨量转移微型器件的主要器件，目前制备PDMS Stamp主要是通过对基板进行蚀刻，形成具有多个凹槽的模具，然后在模具中对PDMS(Polydimethylsiloxane，聚二甲基硅氧烷)进行注塑成型。待模具中的PDMS固化后通过翻模的方式取出具有多个凸块的PDMS，该具有多个凸块的PDMS Stamp。

显然，通过这种制备方案所制得的PDMS Stamp的品质与模具的质量有直接关系，但用于形成模具的基板通常是蓝宝石基板，而蓝宝石基板蚀刻难度大，蚀刻深度小，往往导致PDMS Stamp深宽比不够，无法满足器件转移要求；而且蚀刻形成的凹槽面过于粗糙，导致PDMS Stamp中凸块表面也同样粗糙，降低了PDMS Stamp在器件转移过程中的粘附力，影响了器件转移效果。

因此，如何制备出满足器件转移要求，品质优良的PDMS Stamp是亟需解决的问题。

发明内容

鉴于上述相关技术的不足，本申请的目的在于提供一种转移构件及其制备方法、转移头，旨在解决相关技术中PDMS Stamp制备方案所制得的PDMS Stamp不满足器件转移要求，器件转移效果不佳的问题。

本申请提供一种转移构件的制备方法，包括：

在衬底表面设置一弹性胶层；

于弹性胶层上设置一掩膜版；其中，掩膜版包括镂空区域；

透过掩膜版的镂空区域对弹性胶层进行蚀刻；

待蚀刻完成后，去除掩膜版以得到转移构件。

上述转移构件的制备方法中，通过在衬底表面设置弹性胶层，然后在弹性胶层上设置包括镂空区域的掩膜版，并透过掩膜版对弹性胶层进行蚀刻，相较于蚀刻蓝宝石基板，蚀刻弹性胶层要容易得多。而且，只要弹性胶层设置得足够厚，就可以蚀刻出较高深宽比的转移构件，能够满足各种器件的转移要求。另外，因为转移构件粘附待转移器件的面并不是蚀刻面，其具有较高的平整度，粘附性强，器件转移效果佳。而且，由于制备转移构件的过程中不涉及翻模取出转移构件的过程，不必面临相关技术中所存在的脱模困难的问题。所以，本申请所提供的转移构件的制备方法不仅制备工艺难度低，而且所制得的转移构件品质优良，符合器件转移需求，有利于提升器件巨量转移的效率和良率。

可选地，于弹性胶层上设置一掩膜版的步骤，包括：

方式一：

提供一掩膜制备基板及形成于掩膜制备基板上的一掩膜层；

对掩膜层进行图案化处理形成掩膜版；

结合弹性胶层与掩膜版；

去除掩膜制备基板；

方式二：

在弹性胶层上设置一掩膜层；

对掩膜层进行图案化处理形成掩膜版。