[发明专利]金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜，其特征在于：该薄膜为多层膜结构，所述多层膜结构包括基底，以及在所述的基底上由内向外依次交替叠加的硅膜层和钨膜层；所述基底材料为无纺布，或PI、PET、TPU、PVC、BOPP中的一种；

所述金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜在中远红外探测波段具有低发射率，在激光测距或激光目标指示其的1.064 μm工作波长上具有低反射率，在非探测波段具有高发射率；

所述基底上共叠加有5层膜层，且最内层和最外层均为硅膜层；5层膜层由内向外各层的厚度依次为：180±20nm、20-300nm、780±30nm、20±10nm、370±20nm。

2.根据权利要求1所述的金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜，其特征在于：所述多层膜在3-5μm的平均反射率75％，在8-14μm的平均反射率80％，在5-8μm的平均反射率40％，在1.05-1.08μm的最大反射率10％。

3.根据权利要求1-2任意一项所述的金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜的制备方法，其特征在于：采用镀膜法在所述基底材料上依次交替镀制硅膜层和钨膜层。

4.根据权利要求3所述的金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜的制备方法，其特征在于：所述镀膜法为电子束蒸发镀膜、热蒸发镀膜、磁控溅射镀膜中的一种。