[发明专利]金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜及其制备方法

说明书

本发明涉及一种金属‑介质型光谱选择性多波段隐身薄膜及其制备方法，该薄膜为多层膜结构，所述多层膜结构包括基底，以及在所述的基底上由内向外依次交替叠加的硅膜层和钨膜层；所述基底材料为无纺布，或PI、PET、TPU、PVC、BOPP中的一种。本发明的金属‑介质型光谱选择性多波段隐身薄膜，实现了中远红外波段(3‑5μm和8‑14μm)和1.064μm激光波长的兼容隐身，同时在非探测波段(5‑8μm)具有较强散热能力，若将其应用于装备上，对于保护我军重要军事目标，提高武器装备的生存概率具有重要的意义。

技术领域

本发明涉及军事隐身技术领域，尤其涉及一种金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜及其制备方法。

背景技术

现代战争中，多波段光电侦察与精确制导武器的广泛应用，对军事目标的生存带来巨大的威胁。隐身作为一种重要的对抗措施，目的是要降低目标和背景的辐射对比度或者减弱回波信号。由此产生了红外隐身、激光隐身等军事需求。

为了能实现良好的多波段隐身效果，需要隐身材料在中远红外探测波段(3-5μm和8-14μm)具有低发射率(高反射率)，在激光测距或激光目标指示器的工作波长上(1.064μm)具有低反射率，虽然用含金属的材料制作成涂料或者薄膜能实现红外隐身，但是其在整个红外波段对激光的反射都比较大，这和激光隐身的低反射率要求是矛盾的，随着激光制导武器的广泛应用，必需解决激光和红外的多波段兼容隐身问题。

由于目标温度通常比背景高，用低发射率材料进行红外隐身就能抑制目标的红外辐射，和背景融为一体。但是发射率低意味着向外发出的辐射弱，会影响目标自身的散热，严重的可能影响目标的正常工作，所以实现良好隐身还要解决隐身和散热的问题，需要隐身材料的光谱具有波段选择性。

用不含金属的全介质材料制作红外低发射、激光低反射的薄膜，能够实现激光和红外的多波段兼容隐身，但是一般实现这一功能的薄膜层数较多，厚度较大，在一定程度上限制了其应用性能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜及其制备方法，以实现中远红外波段和激光波长的兼容隐身，并且在非探测波段具有较强散热能力。

为实现上述目的，本发明采用了以下技术方案：

一种金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜，该薄膜为多层膜结构，所述多层膜结构包括基底，以及在所述的基底上由内向外依次交替叠加的硅膜层和钨膜层；所述基底材料为无纺布，或PI、PET、TPU、PVC、BOPP中的一种。

优选的，所述多层膜在3-5μm的平均反射率75％，在8-14μm的平均反射率80％，在5-8μm的平均反射率40％，在1.05-1.08μm的最大反射率10％。

优选的，所述基底上共叠加有5层膜层，且最内层和最外层均为硅膜层；5层膜层由内向外各层的厚度依次为：180±20nm、20-300nm、780±30nm、20±10nm、370±20nm。

本发明还提供了上述金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜的制备方法，具体为采用镀膜法在所述基底材料上依次交替镀制硅膜层和钨膜层。

优选的，所述镀膜法为电子束蒸发镀膜、热蒸发镀膜、磁控溅射镀膜中的一种。

本发明的有益效果在于：

本发明的金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜，实现了中远红外波段(3-5μm和8-14μm)和1.064μm激光波长的兼容隐身，同时在非探测波段(5-8μm)具有较强散热能力，若将其应用于装备上，对于保护我军重要军事目标，提高武器装备的生存概率具有重要的意义。

本发明的金属-介质型光谱选择性多波段隐身薄膜制作原材料只有两种材料，膜层层数5层，结构简单，重量轻、厚度薄，加工制作工艺成熟，易于规模化生产和应用。

附图说明