[发明专利]定位装置、曝光装置以及物品的制造方法在审
申请号: | 202011134936.5 | 申请日: | 2020-10-21 |
公开(公告)号: | CN112764319A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 本间将人 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定位 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
1.一种定位装置,对板进行定位,其特征在于,
该定位装置包括:
载置台,能够保持所述板并在第1方向上移动;以及
测量部,在所述第1方向上射出光,并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光,测量所述载置台在所述第1方向上的位置,
所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部,该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形,
所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高,且与所述板以及所述反射构件分离地配置。
2.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述壁部在所述第1方向上配置于比所述板与所述反射构件的中间位置靠所述板所在侧的位置。
3.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述反射构件由从所述载置台的上表面突出的支承部支承,
所述壁部与所述支承部分离地配置。
4.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述载置台的上表面是包括保持所述板的保持面在内的面。
5.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
在与所述载置台的上表面平行的面内与所述第1方向垂直的第2方向上,所述壁部的长度为所述板的长度以上。
6.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述载置台具有包围所述测量部的光路的一部分的罩构件,
在所述罩构件与所述壁部之间形成有用于从所述罩构件的内部排出气体的间隙。
7.根据权利要求6所述的定位装置,其特征在于,
所述罩构件在与所述第1方向垂直的第2方向侧的侧面具有用于从该罩构件的内部排出气体的开口部。
8.根据权利要求7所述的定位装置,其特征在于,
所述罩构件在所述第1方向上的所述反射构件与所述壁部之间具有所述开口部。
9.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述载置台包括:粗动载置台;以及微动载置台,保持所述板并且相对于所述粗动载置台进行相对移动,
所述壁部由所述微动载置台支承。
10.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述载置台包括:粗动载置台;以及微动载置台,保持所述板并且相对于所述粗动载置台进行相对移动,
所述壁部由所述粗动载置台支承。
11.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
所述定位装置还包括吹出部,该吹出部朝向所述载置台吹出气体,以在所述测量部的光路上形成沿着所述第1方向的气体的流动。
12.一种曝光装置,一边扫描原版和基板一边对所述基板进行曝光,其特征在于,
该曝光装置包括权利要求1至11中任一项所述的定位装置,
所述定位装置对作为所述板的所述原版及所述基板的至少一方进行定位。
13.一种物品的制造方法,其特征在于,
该物品的制造方法包括:
使用权利要求12所述的曝光装置对基板进行曝光的工序;以及
对在所述工序中进行了曝光的所述基板进行显影的工序,
从显影后的所述基板制造物品。
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