[发明专利]定位装置、曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明提供有利于高精度地测量载置台的位置的定位装置、曝光装置以及物品的制造方法。进行板的定位的定位装置包括：载置台，能够保持所述板并在第1方向上移动；以及测量部，在所述第1方向上射出光，并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光，测量所述载置台在所述第1方向上的位置，所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部，该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形，所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高，且与所述板以及所述反射构件分离地配置。

技术领域

本发明涉及对板进行定位的定位装置、包括该定位装置的曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

作为在液晶面板或半导体器件的制造工序(光刻工序)中使用的装置之一，已知一边使原版与基板相对地扫描一边对基板进行曝光的曝光装置。在这样的曝光装置中，为了在基板上高精度地形成图案，要求提高保持原版、基板的载置台的定位精度，为此需要高精度地测量载置台的位置。

在载置台的位置的测量中，一般能够使用激光干涉仪，但在激光干涉仪中，由于测量光路上的气体的温度、压力、湿度等的波动而引起的测量光路上的折射率的变化可能成为测量精度的降低(测量误差)的主要原因。例如，在原版中，由于在基板的曝光中被照明而温度上升，因此若在原版上产生的热随着原版载置台的移动而向周围扩展并侵入到测量光路，则原版载置台的位置的测量精度可能降低。另外，为了防止原版的模糊，有时用比其周围低湿度的气体(吹扫气体)充满原版的配置空间。即使在这种情况下，若低湿度的气体随着原版载置台的移动而侵入到测量光路，则原版载置台的位置的测量精度也可能降低。

在专利文献1中公开了一种具备干涉仪的测量装置，该干涉仪朝向设置于载置台的侧面的反射镜射出光，接受由反射镜反射的光与参照光的干涉光而检测载置台的位置。在专利文献1所公开的测量装置中，用于将从气体吹出部朝向载置台吹出的气体向干涉仪的光路整流而高效地引导的构造体(整流板)被设置成，从上下夹持该光路的一部分以及反射镜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-209401号公报

如专利文献1所公开的那样，在反射镜和结构体设置于载置台的侧面的结构中，随着载置台的移动，载置台上(例如原版上)的气体有时会流入载置台的侧面。在该情况下，在载置台的侧面的附近的测量光路上，由从气体吹出部吹出并被构造体引导的气体和从载置台上流动来的气体产生紊流(气体的波动)，载置台的位置的测量精度可能降低。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种有利于用于高精度地测量载置台的位置的技术。

用于解决课题的技术方案

为了实现上述目的，作为本发明的一技术方案的定位装置，是对板进行定位的定位装置，其特征在于，该定位装置包括：载置台，能够保持所述板并在第1方向上移动；以及测量部，在所述第1方向上射出光，并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光，测量所述载置台在所述第1方向上的位置，所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部，该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形，所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高，且与所述板以及所述反射构件分离地配置。

本发明的进一步的目的或其它的技术方案能够通过以下参照附图说明的优选的实施方式来明确。

发明效果

根据本发明，例如能够提供一种有利于用于高精度地测量载置台的位置的技术。

附图说明

图1是表示曝光装置的结构的概略图。

图2是表示第1实施方式的定位装置的结构的概略图。