[发明专利]连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线

权利要求书

1.一种连续真空磁控溅射镀膜装置，包括真空室(1)、真空单元、布气单元、交替镀膜单元和变速转动单元，其特征在于：所述真空单元包括真空泵(2)，所述真空泵(2)的抽气口与真空室(1)连通；

所述布气单元包括布气机(3)，所述布气机(3)的布气口与真空室(1)连通；

所述交替镀膜单元包括相对的正极接电环板(4)和负极接电环板(5)，所述正极接电环板(4)和负极接电环板(5)间活动设置有相对的溅射靶一(6)和溅射靶二(7)，所述溅射靶一(6)和溅射靶二(7)相互远离的一侧各固定连接有接电柱(8)，且接电柱(8)连通正极接电环板(4)或负极接电环板(5)，所述溅射靶一(6)和溅射靶二(7)下部通过连杆(9)固定连接；

所述变速转动单元包括转动杆(10)，且转动杆(10)固定连接在连杆(9)底面上，所述转动杆(10)外侧固定连接有从转齿轮一(11)，且从转齿轮一(11)外侧固定连接半圈轮齿，所述转动杆(10)外侧活动连接有从转齿轮二(12)，且从转齿轮二(12)外侧固定连接有半圈轮齿，所述从转齿轮二(12)位于从转齿轮一(11)下方，且从转齿轮一(11)和从转齿轮二(12)的轮齿互补；

所述从转齿轮一(11)一侧啮合连接有主转齿轮一(14)，所述主转齿轮一(14)端面固定连接有转动柱一(141)，所述主转齿轮一(14)下方活动设置有不少于2个主转齿轮二(15)，所述主转齿轮二(15)端面固定连接有转动柱二(151)；

所述主转齿轮一(14)远离从转齿轮一(11)的一侧固定设置有驱动转杆(16)，所述驱动转杆(16)上固定连接有若干大小不同的变速转轮(17)，且变速转轮(17)的个数比主转齿轮二(15)多一个，多个所述变速转轮(17)分别通过传动带(18)与转动柱一(141)或转动柱二(151)滑动连接；

所述从转齿轮一(11)两侧对称开设有通孔一(1101)，所述从转齿轮二(12)两侧对称开设有通孔二(121)，所述通孔一(1101)和通孔二(121)间活动穿过有调节杆(19)，所述调节杆(19)两侧开设有空槽(191)，所述空槽(191)内部固定设置有调节机构；

所述调节机构包括若干一侧开口的套筒(20)，且套筒(20)的个数与主转齿轮二(15)相同，所述套筒(20)内壁在不同高度上固定连接有限位块一(201)和限位块二(202)，所述套筒(20)内部活动连接有磁性板(21)，且磁性板(21)位于限位块一(201)和限位块二(202)之间，所述套筒(20)远离套筒(20)开口方向的内壁固定连接有电磁铁(22)，所述电磁铁(22)与磁性板(21)间固定连接有拉伸弹簧(23)；

多个所述套筒(20)通过套设组成调节机构，内侧的所述套筒(20)活动伸进外侧的套筒(20)内部，且内侧套筒(20)的顶壁固定连接在外侧套筒(20)内部的磁性板(21)上，最内侧的所述套筒(20)的磁性板(21)固定连接有连接杆一(24)，且连接杆一(24)活动伸出套筒(20)；

所述调节杆(19)外侧活动套设有限位环板(13)，且从转齿轮二(12)位于从转齿轮一(11)与限位环板(13)之间，所述限位环板(13)内壁固定连接有连接杆二(131)，所述连接杆二(131)远离限位环板(13)的一端活动伸进空槽(191)并与连接杆一(24)固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种连续真空磁控溅射镀膜装置，其特征在于：多个所述套筒(20)的限位块一(201)和限位块二(202)的高度差相同，相邻的所述主转齿轮二(15)间的高度差与限位块一(201)和限位块二(202)间高度差相同。

3.根据权利要求1所述的一种连续真空磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述转动杆(10)两侧开设有滑动槽(101)，所述从转齿轮二(12)内壁固定连接有滑动块(122)，且滑动块(122)活动伸进滑动槽(101)中。

4.根据权利要求1所述的一种连续真空磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述驱动转杆(16)安装在驱动电机(25)上。

5.根据权利要求1所述的一种连续真空磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述调节杆(19)伸出从转齿轮一(11)的一端固定连接有挡板(26)。

6.一种镀膜生产线，包括生产线主体，其特征在于：还包括上述权利要求1-5任意一项所述的连续真空磁控溅射镀膜装置。