[发明专利]一种晶圆片擦粉机及其擦粉机构

说明书

本发明提供了一种晶圆片擦粉机及其擦粉机构，半导体元件制造设备技术领域，包括行星齿轮组和用以连接擦粉专用滤纸的强磁体，强磁体设于行星齿轮组下端面，采用行星齿轮组作为传动机构，并在行星齿轮组下端面设置用以连接擦粉专用滤纸的强磁体，使得擦粉专有滤纸既有部分能实现绕中心公转，同时也有部分能实现绕自身的中心自转，使得擦粉效果更好。

技术领域

本申请涉及半导体元件制造设备技术领域，具体而言，涉及一种晶圆片擦粉机及其擦粉机构。

背景技术

GPP(Glassivation Passivation Parts)二极管芯片，即玻璃钝化类二极管芯片，其是在现有普通硅整流扩散片的基础上对拟分割的管芯P/N结面四周烧结一层玻璃，使P/N结获得最佳的保护，免受外界环境的侵扰，提高二极管芯片的稳定性，该GPP二极管芯片在其P/N结面烧结一层玻璃后，还需要对该玻璃进行钝化处理，在进行钝化处理前还需要擦除该玻璃表面上的玻璃粉，否则会严重影响玻璃的钝化效果，以致二极管芯片的性能劣化。

目前，GPP二极管芯片玻璃钝化前的擦粉操作都是人工擦粉，如中国专利申请CN201611183968.8所描述的使用橡皮擦通过人手轻而平地擦除玻璃粉，但是人工擦粉毕竟是通过人手来实现的，其擦粉对象为玻璃这类易碎品，每个工人在操作过程中的擦粉力度都不同，相应地，玻璃的擦粉洁净度也存在差异，这使得产品的良品率无法得到很好的控制，人工擦粉操作也很容易导致二极管芯片生产报废率的上升。此外，人工擦粉操作的效率低下，其并不能满足GPP二极管芯片日益增大的需求量，并且通过人手操作完成擦粉程序也会导致GPP二极管芯片生产成本的上升，这最终会降低GPP二极管芯片在价格上的优势。另外，人工擦粉操作所需物料繁多，处理步骤复杂，其保护措施简陋，且操作空间无法实现百分之百的封闭性，玻璃粉尘极容易向外漂浮扩散，对周围环境造成粉尘污染，该粉尘污染会对操作人员造成健康隐患，并且还会进入到二极管芯片生产设备中影响设备的正常工作；粉尘漂浮还会给操作车间带来爆炸和火灾的安全隐患。

也有少量采用机械装置对GPP二极管芯片进行擦粉，例如中国发明专利申请CN201821527443.6——一种GPP晶圆片擦粉机，其避免了人工擦粉，降低了芯片的报废率。

发明内容

本申请的第一个目的在于提供一种晶圆片擦粉机及其擦粉机构，其采用行星齿轮组作为传动机构，并在行星齿轮组下端面设置用以连接擦粉专用滤纸的强磁体，使得擦粉专有滤纸既有部分能实现绕中心公转，同时也有部分能实现绕自身的中心自转，使得擦粉效果更好。

本发明的实施例通过以下技术方案实现：

一种晶圆片擦粉机的擦粉机构，包括行星齿轮组和用以连接擦粉专用滤纸的强磁体，所述强磁体设于所述行星齿轮组下端面。

进一步的，所述行星齿轮组包括顶板、底板、主动齿轮和若干依次套设的行星组所述主动齿轮可绕自身中心轴转动的安装于顶板和底板之间，所述行星组包括若干行星齿轮和齿圈，所述若干行星齿轮和主动齿轮或齿圈啮合且均匀分布，行星齿轮可绕自身中心轴转动的安装于顶板和底板之间，齿圈可绕自身中心轴转动的安装于顶板，所述底板包括若干底板本体所述底板本体设于齿圈之间且活动连接于齿圈。

进一步的，所述强磁体设于所述主动齿轮转轴、行星齿轮转轴和齿圈下端。

进一步的，所述主动齿轮和行星齿轮的转轴开设有吹风通孔，所述吹风通孔连通吹风机构用以吹动粉尘。

进一步的，还包括旋转机构，所述旋转机构包括旋转转轴和连接架，所述连接架规定与所述顶板上端，所述旋转转轴下端连接连接架，旋转转轴上端可转动的安装于工作平台用以驱动行星齿轮组旋转。

进一步的，还包括用以移动行星齿轮组的移动机构，所述移动机构包括相互啮合的齿轮和齿条，所述齿轮套设于所述旋转转轴，所述齿条安装于工作平台。