[发明专利]膜形成基材的制造方法、膜形成基材及表面处理剂在审
| 申请号： | 202011142898.8 | 申请日： | 2018-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN113275229A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 西江健二;冈勇贵;市桥知子;藤井琢人 | 申请（专利权）人： | MEC株式会社 |
| 主分类号： | B05D7/14 | 分类号： | B05D7/14;B05D3/10;B05D1/02;B05D3/12;C23C22/26;C23C22/52;C23C22/63;H05K3/06;H05K3/28;H05K3/38 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;孙荀 |
| 地址： | 日本兵库县尼崎*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 基材 制造 方法 表面 处理 | ||
【权利要求书】：
1.一种膜形成基材，在金属基材表面形成有树脂组合物的膜，该金属基材表面相对于水的接触角为50°以上150°以下且表面粗糙度(Ra)为0.1μm以上0.8μm以下。
2.一种膜形成基材，在金属基材表面形成有树脂组合物的膜，该金属基材表面相对于防焊剂的接触角为10°以上120°以下且表面粗糙度(Ra)为0.1μm以上0.8μm以下。
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