[发明专利]一种封装结构及制作方法在审

专利信息
申请号: 202011144333.3 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112331799A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 温质康;乔小平;苏智昱 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;H01L21/77;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 林祥翔;徐剑兵
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 封装 结构 制作方法
【权利要求书】:

1.一种封装结构制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

在设置有发光器件的基板上制作第一无机薄膜,所述第一无机薄膜覆盖所述发光器件;

制作具有凹凸结构的缓冲层,所述凹凸结构至少位于所述缓冲层的顶部侧边上,所述缓冲层覆盖所述第一无机薄膜;

在凹凸结构的凹陷区填充纳米修复颗粒和/或吸水颗粒。

2.根据权利要求1所述的一种封装结构制作方法,其特征在于,所述凹凸结构的横截面的形状为波浪形。

3.根据权利要求1所述的一种封装结构制作方法,其特征在于,还包括如下步骤:

制作第二无机薄膜,所述第二无机薄膜位于所述缓冲层上,所述第二无机薄膜覆盖所述凹凸结构,所述第二无机薄膜的上表面平整。

4.根据权利要求1所述的一种封装结构制作方法,其特征在于,所述“设置有发光器件的基板”通过如下步骤制得:

在基板上制作聚酰亚胺层;

制作薄膜晶体管器件;

制作发光器件,所述发光器件为OLED器件。

5.根据权利要求4所述的一种封装结构制作方法,其特征在于,在步骤“在基板上制作聚酰亚胺层”后,在步骤“制作薄膜晶体管器件”前,还包括如下步骤:

制作第三无机薄膜,所述第三无机薄膜位于聚酰亚胺层上;

制作第四无机薄膜,所述第四无机薄膜位于所述第三无机薄膜上,所述第四无机薄膜上表面用于设置所述薄膜晶体管器件。

6.一种封装结构,包括基板和发光器件,所述发光器件设置在所述基板上,其特征在于,还包括第一无机薄膜和缓冲层;

所述第一无机薄膜覆盖所述发光器件;

所述缓冲层覆盖所述第一无机薄膜,所述缓冲层上设置有凹凸结构,所述凹凸结构至少位于所述缓冲层的顶部侧边上,在凹凸结构的凹陷区填充纳米修复颗粒和/或吸水颗粒。

7.根据权利要求6所述的一种封装结构,其特征在于,所述凹凸结构的横截面的形状为波浪形。

8.根据权利要求6所述的一种封装结构,其特征在于,还包括第二无机薄膜;

所述第二无机薄膜位于所述缓冲层上,所述第二无机薄膜覆盖所述凹凸结构,所述第二无机薄膜的上表面平整。

9.根据权利要求6所述的一种封装结构,其特征在于,还包括聚酰亚胺层和薄膜晶体管器件;

所述聚酰亚胺层设置在所述基板上;

所述薄膜晶体管器件设置在所述聚酰亚胺层上;

所述发光器件设置在所述薄膜晶体管器件上,所述发光器件为OLED器件。

10.根据权利要求9所述的一种封装结构,其特征在于,还包括第三无机薄膜和第四无机薄膜;

所述第三无机薄膜位于聚酰亚胺层上;

所述第四无机薄膜位于所述第三无机薄膜上,所述第四无机薄膜上表面用于设置所述薄膜晶体管器件。

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