[发明专利]一种低辐射玻璃及其制备方法

说明书

本发明公开一种低辐射玻璃及其制备方法，其中，该低辐射玻璃包括：玻璃基片；由高、低折射率材料交替镀于所述玻璃基片上的底层电介质组合层，所述高折射率材料包括含锆材料化合物；功能层，所述功能层包括第一功能层，所述第一功能层镀于所述底层电介质组合层上；阻挡层，所述阻挡层包括第一阻挡层，所述第一阻挡层镀于所述第一功能层上；顶层电介质组合层，所述顶层电介质组合层镀于远离所述玻璃基底的最外层。本发明技术方案通过在低辐射玻璃的底层电介质组合层膜系中掺入含锆材料化合物的高折射率电介质层，从而形成底层电介质层组合层的折射率高低搭配起到减反射膜作用，有效降低整体膜层结构中金属层的光反射，且提高产品性能。

技术领域

本发明涉及节能玻璃技术领域，特别涉及一种低辐射玻璃及其制备方法。

背景技术

低辐射玻璃也称Low-E玻璃，Low-E是英文Low-Emissivity的简称，是一种对波长范围在4.5～25微米的远红外线有很高反射比(80％以上)的镀膜玻璃。它是通过在高质量浮法玻璃的表面涂覆金属或金属氧化物薄膜的低辐射涂层作为功能层，使其对远红外线具有反射的性能，既可以有效地阻挡高温场向低温场的热流辐射，又能有效地阻止夏季热能进入室内和冬季热能的外泄，具有双向节能的效果。

传统低辐射玻璃，底层电介质组合层的膜层折射率一般都在1.5～2.0之间，无法有效提高底层电介质组合层的减反射和增透效果，导致在确保产品外观颜色稳定的情况下无法增加功能层的厚度，也就无法降低产品的最终U值和遮阳系数Sc。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种低辐射玻璃，旨在保证玻璃外观颜色的情况下降低产品的最终U值和遮阳系数Sc。

为实现上述目的，本发明提出的一种低辐射玻璃，包括：

玻璃基片；

底层电介质组合层，所述底层电介质组合层由高、低折射率材料交替镀于所述玻璃基片上，所述高折射率材料包括含锆材料化合物；

功能层，所述功能层包括第一功能层，所述第一功能层镀于所述底层电介质组合层上；

阻挡层，所述阻挡层包括第一阻挡层，所述第一阻挡层镀于所述第一功能层上；

顶层电介质组合层，所述顶层电介质组合层镀于远离所述玻璃基底的最外层。

在一实施例中，所述低辐射玻璃还包括：

第一中间电介质组合层，所述第一中间电介质组合层镀于所述底层电介质组合层和所述顶层电介质组合层之间；

所述功能层还包括第二功能层，所述第二功能层镀于所述第一中间电介质组合层上；

所述阻挡层还包括第二阻挡层，所述第二阻挡层镀于所述第二功能层上。

在上述实施例的基础上，所述低辐射玻璃还包括：

第二中间电介质组合层，所述第二中间电介质组合层镀于所述第一中间电介质组合层和所述顶层电介质组合层之间；

所述功能层还包括第三功能层，所述第三功能层镀于所述第二中间电介质组合层上；

所述阻挡层还包括第三阻挡层，所述第三阻挡层镀于所述第三功能层上。

可选地，所述含锆材料化合物包括SiZrAlNx、ZrSiOx、ZrSiNx、ZrTiOx、ZrTiNx中的一种或几种，所述高折射率材料膜层的厚度为20nm～30nm。

进一步地，所述底层电介质组合层的高折射率材料的锆含量为5％～50％。

可选地，所述功能层包括银、纳米铜、细晶银中的任一种或两种材料分别镀膜形成，所述功能层的厚度为5nm～20nm。