[发明专利]一种Any Layer外层4分割曝光对位方法有效

专利信息
申请号: 202011152101.2 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112105164B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 王康兵;周刚 申请(专利权)人: 广东科翔电子科技股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;G03F9/00
代理公司: 广东创合知识产权代理有限公司 44690 代理人: 潘丽君
地址: 516083 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 any layer 外层 分割 曝光 对位 方法
【说明书】:

发明涉及一种Any Layer外层4分割曝光对位方法,包括通过打靶打出来的三点方向箭靶和T靶在内层线路制作时进行叠靶设计进行外层对位;采用CO2机台抓取三点方向箭靶,烧出PCB板TOP面上区域的SK镭射靶位;CO2机台抓取上区域的SK镭射靶位,烧出上区域客户需要的laser孔、上区域用于线路对位的3个SX线路靶位和下区域的SK镭射靶位;CO2机台抓取下区域的SK镭射靶位,烧出下区域客户需要的laser孔、下区域用于线路对位的6个SX线路靶位;S4:靶位制作完成后,靶位成型孔依次经沉铜、填孔电镀;所述线路4分割曝光采用线路LDI机台进行线路四分割曝光制作。本发明具有品质好、效率高等优点。

技术领域

本发明涉及线路板制作技术领域,具体为一种Any Layer外层4分割曝光对位方法。

背景技术

Any Layer设计一般采用的是:2/2mil线路、孔距线6mil、BGA夹线3mil等超制程能力的设计方案。且采用的大多数是特殊超薄芯板,尺寸涨缩变异大,常规的打靶、钻孔对位方式无法满足生产需求。此类产品生产难度大,层偏、漏接、破环等品质异常无法管控,同时还存在返工率高和品质漏失风险。

发明内容

为改善Any Layer在制作过程中:层偏、漏接、破环等信赖度及外观异常问题,提升生产效率及产品良率,本发明提供一种产品品质好且生产效率高的Any Layer外层4分割曝光对位方法。

为了实现上述目的,通过以下技术方案实现。

一种Any Layer外层4分割曝光对位方法,所述方法包括,

S1:外层对位,在Any Layer外层制作时,选取N-2层内层板为对位基准进行对位,通过打靶打出来的三点方向箭靶把N-2层内层线路的对位基准通过孔引导到外层板,在机钻钻孔PNL板上通过打靶打出T靶,三点方向箭靶和T靶在内层线路制作时进行叠靶设计,其中N为线路板的层数;

S2:靶位制作,所述靶位制作采用CO2机台进行,包括,

S2.1:通过CO2机台抓取三点方向箭靶,烧出PCB板TOP面上区域的SK镭射靶位;

S2.2:通过CO2机台抓取上区域的SK镭射靶位,烧出上区域客户需要的laser孔、上区域用于线路对位的3个SX线路靶位和下区域的SK镭射靶位,采用自毁模式,毁掉上区域的SK镭射靶位;

S2.3:通过CO2机台抓取下区域的SK镭射靶位,烧出下区域客户需要的laser孔、下区域用于线路对位的6个SX线路靶位,采用自毁模式,毁掉上区域的SK镭射靶位;

S3:靶位制作完成后,线路板上成型区内的孔依次经沉铜、填孔电镀,laser孔经沉铜、填孔电镀后连通内外层,9个SX线路靶位经沉铜、填孔电镀后各形成凹陷,各凹陷在后续用于线路制作;

S4:线路4分割曝光制作:所述线路4分割曝光采用线路LDI机台进行曝光,线路LDI机台先抓取上左区域的4个SX线路靶位进行上左区域的线路曝光,同时曝光出用于阻焊上左区域的对位光学点FID,再抓取上右区域的4个SX线路靶位进行上右区域的线路曝光,同时曝光出用于阻焊上右区域的对位光学点FID,然后再抓取下左区域的4个SX线路靶位进行下左区域的线路曝光,同时曝光出用于阻焊下左区域的对位光学点FID,最后再抓取下右区域的4个SX线路靶位进行下右区域的线路曝光,同时曝光出用于阻焊下右区域的对位光学点FID,达到线路四分割曝光制作,所述四分割曝光的分割线在PCB板的中心线上,且位于SET工艺边上。

进一步地,上述S2步骤中在CO2机台制作SK镭射靶位和SX线路靶位处设计有挡铜层,所述挡铜层采用选镀流程在SK镭射靶位和SX线路靶位对应区域进行加镀铜实现。

进一步地,所述挡铜层的加镀铜厚度在10um左右。

进一步地,所述选镀流程包括如下步骤,

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