[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括位于衬底基板第一侧的薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元，沿远离所述衬底基板的方向，所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极；所述显示基板还包括：

位于所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧的光学结构，所述光学结构能够反射第一波段的光，透射所述第一波段之外的光，所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光学结构采用三维光子晶体层，所述三维光子晶体层的禁带为所述第一波段。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述三维光子晶体层包括块状的第一透光图形和第二透光图形，所述第一透光图形与所述第二透光图形的折射率不同，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布；在平行于所述衬底基板的第一方向上，所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布；在平行于所述衬底基板的第二方向上，所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布，所述第二方向与所述第一方向垂直。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一透光图形与所述第二透光图形中的至少一者采用导电材料。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

位于所述发光单元远离所述衬底基板一侧的封装层；

位于所述封装层远离所述衬底基板一侧的触控层；

位于所述触控层远离所述衬底基板一侧的封装盖板。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透光阳极采用ITO或IZO。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的显示基板。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，还包括：

位于所述衬底基板第二侧的感光元件，所述第二侧与所述第一侧为所述衬底基板相对的两侧。

9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元，沿远离所述衬底基板的方向，所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极；

在所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧形成光学结构，所述光学结构能够反射第一波段的光，透射所述第一波段之外的光，所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述发光单元远离所述衬底基板的一侧形成封装层；

在所述封装层远离所述衬底基板的一侧形成触控层；

在所述触控层远离所述衬底基板的一侧形成封装盖板。