[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202011155134.2 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112271265A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 陈福栋;闫华杰;焦志强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,显示基板,包括位于衬底基板第一侧的薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元,沿远离所述衬底基板的方向,所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极;所述显示基板还包括:位于所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧的光学结构,所述光学结构能够反射第一波段的光,透射所述第一波段之外的光,所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。本发明的技术方案能够改善显示装置的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

透明显示在显示领域中需求广泛,如在屏下指纹识别、屏下摄像头等全面屏显示中应用广泛。相关透明显示的设计方案为:以牺牲PPI(像素密度)为代价,通过增加像素间的间距(该间距范围内无高反射和高吸收膜层),增加显示面板的透明度,这样会导致相应区域的分辨率降低,显示效果下降,严重影响用户使用体验。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,能够改善显示装置的显示效果。

为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:

一方面,提供一种显示基板,包括位于衬底基板第一侧的薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元,沿远离所述衬底基板的方向,所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极;所述显示基板还包括:

位于所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧的光学结构,所述光学结构能够反射第一波段的光,透射所述第一波段之外的光,所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。

一些实施例中,所述光学结构采用三维光子晶体层,所述三维光子晶体层的禁带为所述第一波段。

一些实施例中,所述三维光子晶体层包括块状的第一透光图形和第二透光图形,所述第一透光图形与所述第二透光图形的折射率不同,在垂直于所述衬底基板的方向上,所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布;在平行于所述衬底基板的第一方向上,所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布;在平行于所述衬底基板的第二方向上,所述第一透光图形和所述第二透光图形交替排布,所述第二方向与所述第一方向垂直。

一些实施例中,所述第一透光图形与所述第二透光图形中的至少一者采用导电材料。

一些实施例中,所述显示基板还包括:

位于所述发光单元远离所述衬底基板一侧的封装层;

位于所述封装层远离所述衬底基板一侧的触控层;

位于所述触控层远离所述衬底基板一侧的封装盖板。

一些实施例中,所述透光阳极采用ITO或IZO。

本发明实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示基板。

一些实施例中,显示装置还包括:

位于所述衬底基板第二侧的感光元件,所述第二侧与所述第一侧为所述衬底基板相对的两侧。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法,包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元,沿远离所述衬底基板的方向,所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极;

在所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧形成光学结构,所述光学结构能够反射第一波段的光,透射所述第一波段之外的光,所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。

一些实施例中,所述方法还包括:

在所述发光单元远离所述衬底基板的一侧形成封装层;

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