[发明专利]一种镀膜玻璃加工工艺在审

专利信息
申请号: 202011155861.9 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112194384A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 何宇;李松;刘坤 申请(专利权)人: 四川宇光光学玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 成都市鼎宏恒业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51248 代理人: 张勋
地址: 636000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 玻璃 加工 工艺
【权利要求书】:

1.一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:包括以下加工步骤: S1、玻璃原片预处理,将玻璃原片进行切割掰片,将掰片后的玻璃进行磨边倒角; S2、清洗,风干; S3、镀膜准备,入口准备室:玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室,工序室采用微正压; S4、镀膜工序,第一真空磁控溅射镀膜室镀上第一层介质膜,第二真空磁控溅射镀膜室镀上第一层功能膜和保护膜,第三真空磁控溅射镀膜室镀上第二层介质膜,第四真空磁控溅射镀膜室镀上第二层功能膜和保护膜,第五真空磁控溅射镀膜室镀上外层保护膜; S5、出片,出片准备室; S6、光学质量检验,采用光谱光度计测量其透射率和反射率; S7、卸片、包装、入库。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述S2步骤中清洗前用尼龙毛刷将玻璃表面上的玻粉、灰尘清除。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述S2清洗步骤中,先将玻璃送入玻璃清洗机中采用高速水平辊刷用冷水刷洗,再将玻璃送入冲洗室内采用35-45℃热水冲洗,然后将玻璃采用去离子水喷淋洗涤。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述S4镀膜工序中,第一真空磁控溅射镀膜室、第二真空磁控溅射镀膜室、第三真空磁控溅射镀膜室、第四真空磁控溅射镀膜室、第五真空磁控溅射镀膜室的真空度在9×10-5Pa到9×10-6Pa之间。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述S4镀膜工序中使用的介子气体为氮气。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述S4镀膜工序中介质膜为氧化锡膜层,所述功能膜为银膜层、所述保护膜为二氧化硅膜层。

7.根据权利要求3所述的一种镀膜玻璃加工工艺,其特征在于:所述去离子水的电导值≤10μs/cm2,去离子水洗涤时间为40-50s,速度为4-8m/min。

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