[发明专利]一种镀膜玻璃加工工艺

说明书

本发明公开了一种镀膜玻璃加工工艺，包括以下加工步骤：S1、玻璃原片预处理，将玻璃原片进行切割掰片，将掰片后的玻璃进行磨边倒角；S2、清洗，风干；S3、镀膜准备，入口准备室：玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室，工序室采用微正压；S4、镀膜工序，第一真空磁控溅射镀膜室镀上第一层介质膜，第二真空磁控溅射镀膜室镀上第一层功能膜和保护膜，第三真空磁控溅射镀膜室镀上第二层介质膜，第四真空磁控溅射镀膜室镀上第二层功能膜和保护膜，第五真空磁控溅射镀膜室镀上外层保护膜。通过在多个真空磁控溅射镀膜室内对其进行分层镀膜，提高镀层之间的稳定性，确保成品率。

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃加工技术领域，具体涉及一种镀膜玻璃加工工艺。

背景技术

镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃（Low-E）、导电膜玻璃等。镀膜玻璃的生产方法主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶—凝胶法等，真空磁控溅射镀膜，由传送辊道送入装有阴极的溅射室内，并根据膜层需要，选择不同的靶材和工艺气体。镀膜室内，阴极上施以负电压，靶材后设有永久磁钢，并固定在阴极的顶面（面向玻璃的一面）。在电场的作用下，辉光放电开始形成等离子体，等离子体内的气体正离子由于靶材的负电荷吸引，向靶面飞去。当靶面材料受到足够强的碰撞，靶上的原子即被弹出而溅射到玻璃表面上，即形成一层原子粒排成的薄膜。

现有的镀膜玻璃在镀膜过程中容易出现出现局部脱落的情况，镀层的稳定性难以保证。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜玻璃加工工艺，解决现有的镀膜玻璃在镀膜过程中容易出现出现局部脱落的情况，镀层的稳定性难以保证的问题。

为解决上述的技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种镀膜玻璃加工工艺，其特征在于：包括以下加工步骤： S1、玻璃原片预处理，将玻璃原片进行切割掰片，将掰片后的玻璃进行磨边倒角； S2、清洗，风干； S3、镀膜准备，入口准备室：玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室玻璃经清洗后在工序室等待进入镀膜室，工序室采用微正压； S4、镀膜工序，第一真空磁控溅射镀膜室镀上第一层介质膜，第二真空磁控溅射镀膜室镀上第一层功能膜和保护膜，第三真空磁控溅射镀膜室镀上第二层介质膜，第四真空磁控溅射镀膜室镀上第二层功能膜和保护膜，第五真空磁控溅射镀膜室镀上外层保护膜； S5、出片，出片准备室； S6、光学质量检验，采用光谱光度计测量其透射率和反射率； S7、卸片、包装、入库。

进一步的技术方案是，所述S2步骤中清洗前用尼龙毛刷将玻璃表面上的玻粉、灰尘清除。

更进一步的技术方案是，所述S2清洗步骤中，先将玻璃送入玻璃清洗机中采用高速水平辊刷用冷水刷洗，再将玻璃送入冲洗室内采用35-45℃热水冲洗，然后将玻璃采用去离子水喷淋洗涤。

更进一步的技术方案是，所述S4镀膜工序中，第一真空磁控溅射镀膜室、第二真空磁控溅射镀膜室、第三真空磁控溅射镀膜室、第四真空磁控溅射镀膜室、第五真空磁控溅射镀膜室的真空度在9×10^-5Pa到9×10^-6Pa之间。

更进一步的技术方案是，所述S4镀膜工序中使用的介子气体为氮气。

更进一步的技术方案是，所述S4镀膜工序中介质膜为氧化锡膜层，所述功能膜为银膜层、所述保护膜为二氧化硅膜层。

更进一步的技术方案是，所述去离子水的电导值≤10μs/cm²，去离子水洗涤时间为40-50s，速度为4-8m/min。