[发明专利]一种基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011157568.6 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112366228A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 姜昱丞;黄根生;周鹏飞;殷凌煜 申请(专利权)人: 苏州科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/12;H01L29/36;G04G15/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 钽酸钾 表面 电子 激励 电阻 计时器 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器及其制备方法。以钽酸钾单晶材料为衬底,采用Ar+氩离子束轰击工艺,在钽酸钾表面产生氧空位,形成二维电子气层;通过改变Ar+轰击电压,调制二维电子气的载流子密度,得到对应的电阻随时间增长速率不同的自激励电阻计时器。经电学测量结果表明,该器件的电阻随时间线性增加,利用这种线性关系即可实现对时间的记录。在稳恒条件下,其具有固定的电阻增长速率,且可长时间保持。本发明提供的自激励电阻计时器性能稳定、结构简单,时间记录过程中无需电驱动,可广泛应用于电子芯片、智能器件等领域。

技术领域

本发明属于材料技术领域,具体涉及基于电子气的电阻计时器件。

背景技术

在氧化物界面识别的二维电子气(two-dimensional electron gas, 2DEG)因其显著的物理性质,如超导性、磁阻和铁磁性等,近些年引起了人们的极大关注。具体来说,LaAlO3/SrTiO3界面处的2DEG显示出高迁移率和持久的光电导性,使其成为未来电子和存储器件的候选材料。随着研究的进展,一种更简单的方法被开发出来,通过产生氧空位在STO表面诱导一个二维电子气层。氩离子(Ar+)轰击是一种从氧化物中分离氧离子的有效技术,从而导致氧空位。电荷载流子密度由轰击电压和时间决定。尽管制备方法不同,这些2DEG系统显示出相似的光电传输特性。它们的固有电阻是稳定的,与时间无关。作为另一种钙钛矿结构的氧化物,碳酸钾(KTaO3,KTO)表面可以通过在其上轰击氩离子束来形成高迁移率的2DEG。与STO的相比,KTO的一个明显的优点是存在大的自旋轨道耦合。尽管对基于KTO的二维电子气已经进行了一些研究,但都没有阐明电阻与时间的依赖关系。阐明氧空位诱导的二维电子气的输运性质实际上是非常重要的,它避免了其他氧化物的影响,从而直接反映了KTO的性质。

发明内容

本发明的目的在于利用Ar+轰击在钽酸钾(KTO)衬底上获得高载流子密度的二维电子气,其电阻具有对时间线性依赖的特性,提供一种基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器。

实现本发明目的的技术方案是提供一种基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器,它包括金属电极、钽酸钾单晶基片;基片表面具有高能氩离子束轰击产生的氧空位,形成二维电子气层,电阻随时间的延长呈线性增长。

本发明技术方案还包括一种基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器的制备方法,以钽酸钾单晶材料为衬底,采用Ar+氩离子束轰击工艺,在钽酸钾表面产生氧空位,形成二维电子气层;通过改变Ar+轰击电压,调制二维电子气的载流子密度,得到对应的电阻随时间增长速率不同的自激励电阻计时器。

上述基于钽酸钾表面电子气的自激励电阻计时器的制备方法中,Ar+轰击电压为200~500 V,氩气气压为2×10-4~5×10-4 mbar,轰击时间为2~15分钟;还可以用聚甲基丙烯酸甲酯旋涂于钽酸钾表面,排除空气中的氧气对于表面电子气层的负面影响。

本发明提供的是KTO衬底上获得高载流子密度的二维电子气,这是一种具有特殊的电输运亚稳特性的材料,其电阻具有对时间线性依赖的特性,且可在没有电驱动的情况下执行长时间的时间记录。这种材料可以用于那些无法长期无电源供电的场景中,它具有那些普通电驱动计时器无法比拟的优势。

本发明的有益效果在于:

1. 本发明提供的电子气材料,其电阻可随时间线性增大,且电阻及其增长率都可由Ar+轰击电压决定,从而可实现对时间的记录。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州科技大学,未经苏州科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011157568.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top