[发明专利]一种高速ATE测试板及制作方法在审

专利信息
申请号: 202011162217.4 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN112351600A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 袁凯华;王琪;梁建;罗雄科 申请(专利权)人: 上海泽丰半导体科技有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/11;G01R31/26
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 代理人: 杨用玲
地址: 200233 上海市徐*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高速 ate 测试 制作方法
【说明书】:

发明的技术领域为半导体测试领域,提供了一种高速ATE测试板及制作方法,其方法包括步骤:通过导电胶将单层板压合以及高速过孔形成第一高速子板,以及所述第一高速子板对称的第二高速子板;将所述第一高速子板和所述第二高速子板进行压合,并对所述第二高速子板进行外层图形制作形成高速ATE测试板。通过避免经过“控深钻孔(背钻)”的流程,有效地改善了高速ATE测试板高速过孔背钻加工时引入的背钻残桩过长或背钻偏位问题,也消除了高速性能问题。

技术领域

本发明涉及半导体测试领域,尤指一种高速ATE测试板及制作方法。

背景技术

ATE(Automatic Test Equipment)测试板,是半导体测试板里面的一种,也俗称Loard Board,负载测试板or负载基板,是半导体测试环节里面用到的一种基板,用于搭载IC在测试机上测试IC相关性能。

随着67G甚至更高112G的高速传输技术和数字无线处理技术的发展,故对ATE测试板在高速方面的可测试性能也提出了更高的要求,除了对ATE测试板本身的材料在高速方面的要求外,更重要的是对高速加工控制的要求。传统高速ATE测试板在设计过程,如果需要使用到高速信号(如32G及以下),设计上通常是通孔+控深钻孔(背钻)的形式制作,这种方式较为保险,但是由于控深钻孔(背钻)的技术受限,因此无法满足非常好的背钻残桩控制。

通常的高速ATE测试板一般是在多层高板厚形成的基础上,先打通孔,然后通过控深钻孔(背钻)的形式制作,将高速环回路径上多余的铜钻掉,减少损耗影响,但随着高速速率的日渐往上,对控深钻孔(背钻)的残桩控制要求也越来越严格,需要的残桩长度越来越小。

现有技术的高速ATE测试板制作流程一般为:内层图形制作→压合成多层板→钻高速过孔→孔金属化→塞孔→磨板→钻其他孔→孔金属化→正常外层图形制作→表面处理→控深钻孔(背钻)→正常剩余流程。

此种方法,针对32G以下的高速测试其是可适用的。当高速需求越来越高时,其对控深钻孔(背钻)的要求很高,残桩长度需要很小,因此,在生产过程中可能会存在以下2点隐患:(1)因为背钻深度较深,背钻孔易形成从上到下的偏位,导致底部残铜较多,增大信号传输干扰,损耗偏大(如图2左边示例);(2)同样因为背钻深度较深,背钻孔从上到下的深度未能达到理论背钻深度,因此底部两边的残铜会严重偏多,同样损耗偏大(如图2右边示例)。

发明内容

本发明的目的是提供一种高速ATE测试板及制作方法,该方法通过避免经过“控深钻孔(背钻)”的流程,有效地改善了高速ATE测试板高速过孔背钻加工时引入的背钻残桩过长或背钻偏位问题,也消除了高速性能问题。

本发明提供的技术方案如下:

一种高速ATE测试板制作方法,包括步骤:

通过导电胶将单层板压合以及高速过孔形成第一高速子板,以及所述第一高速子板对称的第二高速子板;

将所述第一高速子板和所述第二高速子板进行压合,并对所述第二高速子板进行外层图形制作形成高速ATE测试板。

进一步优选地,所述通过导电胶将所述单层板压合以及高速过孔形成第一高速子板,包括步骤:

对通过导电胶压合后的所述单层板进行所述高速过孔、过孔金属化、过孔塞孔、磨板、底层图形制作形成第一高速子板;

其中,所述单层板为浸润板。

进一步优选地,所述通过导电胶将所述单层板压合以及高速过孔形成与所述第一高速子板对称的所述第二高速子板,具体包括步骤:

在所述第一高速子板上压合至少一个所述单层板形成预处理的所述第二高速子板;

对预处理的所述第二高速子板和所述第一高速子板进行所述高速过孔、过孔金属化、通过导电胶进行过孔塞孔、磨板形成第二高速子板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海泽丰半导体科技有限公司,未经上海泽丰半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011162217.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top