[发明专利]基板的制作方法、基板和显示装置

说明书

本发明提供一种基板的制作方法、基板和显示装置，该制作方法包括：提供衬底，衬底具有用于安装预设器件预设安装区域；在衬底上设置第一柔性基底层，并使第一柔性基底层的剥离层与预设安装区相对设置；在第一柔性基底层的剥离层上形成第一缓冲层，并在第一柔性基底层除剥离层外的区域上设置第二缓冲层；在第一缓冲层和第二缓冲层上设置第二柔性基底层，其中第二缓冲层与第二柔性基底层的粘接强度大于第一缓冲层与第二柔性基底层的粘接强度；将第一缓冲层和剥离层从第二柔性基底层上移除。该方案设置了具有较小粘接强度的第一缓冲层，在安装预设器件之前，将第一缓冲层和剥离层一起从第二柔性基底层上移除，提高了基板的透光率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种基板的制作方法、基板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，具有高屏占比的显示装置越来越受人们的欢迎。

现有显示装置为了提高屏占比，将一部分功能器件放置在基板下方。其中，该部分功能器件中有些需要感知光线进行检测，即对显示装置的透光率要求较高。然而，现有的显示装置中基板的透光率较低，不能满足该部分功能器件对透光率的需求。

故，有必要提供一种可以提高基板透光率的显示装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板的制作方法、基板和显示装置，可以提高基板的透光率。

本发明实施例提供了一种基板的制作方法，其包括：

提供衬底，所述衬底具有预设安装区域，所述预设安装区域用于安装预设器件；

在所述衬底上设置第一柔性基底层，并使所述第一柔性基底层的剥离层与所述预设安装区相对设置；

在所述第一柔性基底层的所述剥离层上形成第一缓冲层，并在所述第一柔性基底层除所述剥离层外的区域上设置第二缓冲层；

在所述第一缓冲层和所述第二缓冲层上设置第二柔性基底层，其中所述第二缓冲层与所述第二柔性基底层的粘接强度大于所述第一缓冲层与所述第二柔性基底层的粘接强度；

将所述第一缓冲层和所述剥离层从所述第二柔性基底层上移除。

在一实施例中，所述第一缓冲层的组成材料包括有机物。

在一实施例中，所述有机物包括非晶硅。

在一实施例中，所述第一缓冲层的耐热的温度范围在0到475摄氏度之间。

在一实施例中，所述第一缓冲层的厚度范围为40至60埃米之间。

在一实施例中，所述第二缓冲层的组成材料包括无机物。

在一实施例中，所述无机物包括一氧化硅SiO。

在一实施例中，在所述第一柔性基底层的所述剥离层上形成第一缓冲层，并在所述第一柔性基底层除所述剥离层外的区域上设置第二缓冲层步骤还包括：

在所述第一缓冲层上形成所述第二缓冲层；

所述在所述第一缓冲层和所述第二缓冲层上设置第二柔性基底层步骤包括：

在所述第二缓冲层上设置所述第二柔性基底层。

本发明实施例还提供了一种基板，其中，所述基板采用如上所述的制作方法制备。

本发明实施例还提供了一种显示装置，其包括显示面板和如上所述的基板，其中所述显示面板设置在所述第二柔性基底层上。

本发明实施例的基板的制作方法、基板和显示装置中，设置了具有较小粘接强度的第一缓冲层，可以在安装预设器件之前，将第一缓冲层和剥离层一起从第二柔性基底层上移除，提高了基板的透光率。

附图说明