[发明专利]梯度变温合成CdSe量子点的方法及CdSe量子点有效

专利信息
申请号: 202011164910.5 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN114479862B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 庞代文;朱小波;朱东亮;董博然;郭三维;徐越;朱晓亮 申请(专利权)人: 武汉珈源同创科技有限公司
主分类号: C09K11/88 分类号: C09K11/88;B82Y20/00;B82Y40/00
代理公司: 北京隆源天恒知识产权代理有限公司 11473 代理人: 吴航
地址: 430074 湖北省武汉市东湖新技术开*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 梯度 合成 cdse 量子 方法
【说明书】:

发明提供了一种梯度变温合成CdSe量子点的方法及CdSe量子点,属于量子点制备技术领域。方法包括以下步骤:S1、将Cd源、Se源、配位溶剂和非配位溶剂混合,得到混合溶液;S2、将步骤S1的混合溶液升温至第一温度保温,然后降温至第二温度保温,得到含有量子点晶核的混合溶液;S3、将步骤S2的混合溶液升温至第三温度保温;S4、将步骤S3的混合溶液升温至第四温度保温,形成CdSe量子点;其中,第一温度和第二温度的温度差为10‑30℃。本发明通过控制成核温度和晶核熟化温度,使生长阶段的单体浓度始终维持在成核临界浓度以下、生长临界浓度以上,保证成核与生长过程分离开,以提高由晶核生长形成的量子点尺寸的均一性,制备得到的量子点半峰宽极窄。

技术领域

本发明涉及量子点制备技术领域,特别涉及一种梯度变温合成CdSe量子点的方法及CdSe量子点。

背景技术

量子点,是由成千上万个原子有序紧密组合在一起的准零维纳米材料,其颗粒半径接近或小于激子波尔半径,又称为纳米晶。由于具有量子限域效应、量子尺寸效应等独特性质,其分立的量子能级结构,受激后可以发射荧光,展现出优异的光学性能。与传统的纳米晶和有机染料相比,量子点材料具有宽的激发区域和较窄的发射光谱,荧光光谱的范围可分布在全部可见光范围内,具有更强的光吸收能力和稳定的发光性能,在发光器件,光学生物标记,半导体等领域具有广泛的应用前景。同时,基于上述的量子效应,通过一定方式调控量子点的尺寸、晶型和组分可以很好地调控其发光性能。

目前,合成量子点的方法有许多种,如有机金属法,水相合成法,气相沉淀法和微乳液合成法;其中水相合成法由于可以快速、低成本的制备出生物相容的量子点受到了研究者们的广泛关注。而常用的水相合成法有大致可以分为高温注射法和非注射法(一锅法)两类。

高温注射法是指在高温下将前体快速注入到溶剂内,这时单体浓度会立刻上升至成核浓度以上,在短时间内形成大量晶核,同时单体浓度迅速下降,之后适当降低反应温度,减缓单体释放速度,让量子点在低温下生长,生长过程中,小粒径的量子点,比表面积大,生长速度快;大粒径的量子点比表面积小,生长速度慢,经过“尺寸聚焦”过程,量子点粒径相对均一。在该方法中,“高温成核,低温生长”一定程度上实现了成核与生长过程的分离,但由于前体含量有限,高温注入瞬间,大量单体用于成核,成核后未有足够的单体用于后续生长,即很难平衡量子点的成核和生长过程,因此,成核后的粒子进行奥斯特瓦尔德熟化生长,最终量子点的尺寸分布相对较差,半峰宽较宽。而且,在合成过程中,快速注入前体的步骤难以控制,同时,当合成规模变大后,注入的大量前体短时间内难以在溶剂中均匀分散,因此高温注射法难以适用于大规模生产。

非注射法(一锅法)是指将量子点合成的前体和溶剂在低温下直接混合,之后进行加热。随着温度的升高,单体释放的速度变快,当单体浓度升高至成核浓度以上,会形成量子点的晶核。该方法相比于高温注射法,无需前驱体溶液的快速注入,反应速度相对较慢,因此更加可控且重现性更好,操作十分简单,对设备要求低,适合大规模生产。但由于合成过程中,随着温度不断升高,单体释放速度加快,单体浓度持续维持在成核浓度以上,不断生成新的量子点晶核,使得量子点的成核和生长过程连在一起,而不同时间温度条件下形成的量子点粒径各不相同,进而导致量子点的粒径分布较宽。

发明内容

针对以上现有技术中的问题,本发明的目的一在于提供一种梯度变温合成CdSe量子点的方法,通过控制成核温度和晶核熟化温度,使生长阶段的单体浓度始终维持在成核临界浓度以下、生长临界浓度以上,保证成核与生长过程分离开,以提高由晶核生长形成的量子点尺寸的均一性,制备得到的量子点半峰宽极窄。

为实现上述目的,本发明具体通过以下技术实现:

一种梯度变温合成CdSe量子点的方法,包括以下步骤:

S1、将Cd源、Se源、配位溶剂和非配位溶剂混合,得到混合溶液;

S2、将步骤S1的混合溶液升温至第一温度进行保温,然后降温至第二温度进行保温,得到含有量子点晶核的混合溶液;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉珈源同创科技有限公司,未经武汉珈源同创科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011164910.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top