[发明专利]掩膜板及显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：基础部、第一部和至少一个开口区；

所述第一部位于所述开口区周围；

所述基础部包围所述第一部，所述基础部的厚度大于所述第一部的厚度；所述厚度为沿第一方向的尺寸，所述第一方向为垂直于显示面板的基板的方向；

所述第一部的一侧设有第一磁性部，所述第一磁性部在设计磁场作用下带动所述第一部翘曲。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一磁性部为涂覆在所述第一部一侧的一层磁性层。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述磁性层全部覆盖所述第一部的一侧表面。

4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述磁性层覆盖所述第一部的表面的面积小于所述第一部的一侧表面的面积。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括以下至少一项：

所述第一部和所述第一磁性部在第一方向的厚度之和与所述基础部在第一方向的厚度呈第一预设比例；

所述第一磁性部和所述第一部在第一方向的厚度呈第二预设比例；

所述基础部在第一方向的厚度为50微米～200微米；

所述第一部在第一方向的厚度为25微米～100微米；

所述第一磁性部在第一方向的厚度为10微米～20微米。

6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基础部的一侧面和所述第一部的一侧面齐平。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一部和基础部为一体成型结构；

所述第一部和基础部均由磁性材质制备而成；

所述第一部和基础部的磁性均小于所述第一磁性部的磁性。

8.根据权利要求1所述的掩膜板，所述第一磁性部采用涂覆、离子溅射或电铸的方式沉积而成。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

将如权利要求1-8中任一项所述掩膜板置于显示面板的待蒸镀膜层或基板的一侧，且将所述掩膜板中的开口区与所述待蒸镀膜层或所述基板的待蒸镀区域对齐；

控制位于所述基板的另一侧的磁场源输出设计磁场，使得所述第一磁性部在所述设计磁场作用下带动所述掩膜板中的第一部朝向所述待蒸镀膜层或所述基板翘曲，所述第一部靠近或接触所述待蒸镀膜层或所述基板；

通过所述开口区对应蒸镀膜层材料，形成蒸镀膜层。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述蒸镀膜层包括以下至少一项：空穴传输层、电子传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、阴极层、氟化锂层、耦合层。