[发明专利]光刻机硅片台移动装置

说明书

本发明公开了光刻机硅片台移动装置，包括支撑平台，所述支撑平台的下表面固定安装有辅助支撑腿，所述支撑平台的上表面固定安装有第一支撑板，所述第一支撑板的上表面开设有第一条形槽，所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴，所述第一滚轴的表面搭接有硅片台，所述硅片台的上表面开设有放置槽。该光刻机硅片台移动装置，通过设置第一支撑板、压板、第一滚轴和第二滚轴，利用第一支撑板上的第一滚轴和压板上的第二滚轴夹紧硅片台，当硅片台在丝杠的带动下移动时，由于硅片台的上下两表面分别与第一滚轴和第二滚轴滚动连接，与滑动连接相比较，减少了第一滚轴、第二滚轴和硅片台之间的磨损，提高了硅片的加工精度。

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域，具体为光刻机硅片台移动装置。

背景技术

光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤，半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成，而光刻技术的发展或者说光刻机的技术进步则主要围绕着线宽、套刻精度和生产率这三大指标展开。

在光刻机工作过程中，硅片台的主要用途在于承载硅片和带动硅片进行短距离的移动，传统的硅片台移动，是靠电机带动丝杠转动，利用丝杠和导向杆带动硅片台移动，导向杆和硅片台之间滑动连接，在长时间的摩擦后，导向杆和硅片台上的限位孔均有不同程度的磨损，当丝杠转动时，硅片台会产生一定的倾斜，影响硅片的加工精度。

因此，本发明提出光刻机硅片台移动装置。

发明内容

本发明的目的在于提供光刻机硅片台移动装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：光刻机硅片台移动装置，包括支撑平台，所述支撑平台的下表面固定安装有辅助支撑腿，所述支撑平台的上表面固定安装有第一支撑板，所述第一支撑板的上表面开设有第一条形槽，所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴，所述第一滚轴的表面搭接有硅片台，所述硅片台的上表面开设有放置槽，所述放置槽的内底壁开设有沉孔，所述沉孔的内壁固定安装有吸管，所述第一支撑板的上表面通过螺栓固定安装有第二支撑板，所述第二支撑板的截面为L型结构，所述第二支撑板的上表面分别开设有螺纹孔和通孔，所述螺纹孔的内壁螺纹连接有调节螺纹杆，所述通孔的内壁滑动连接有限位杆，所述调节螺纹杆的下端转动连接有压板，所述压板的下表面开设有第二条形槽，所述第二条形槽的内壁转动连接有第二滚轴，所述支撑平台的左右两侧面均固定安装有挡板，两个所述挡板的相对面均固定安装有滚珠轴承，两个所述滚珠轴承的内环面固定连接有丝杠，左侧所述挡板的左侧固定安装有电机安装座，所述电机安装座的上表面通过螺栓固定安装有伺服电机。

优选的，所述放置槽的内底壁开设有吸附槽，所述吸附槽的数量为若干个，若干个所述吸附槽呈放射状设置在放置槽的内底壁，所述吸管的表面固定安装有电磁阀，所述吸管的下端与外部光刻机的气泵相连接。

优选的，所述辅助支撑腿的数量为四个，四个所述辅助支撑腿呈矩形阵列设置在支撑平台下表面的四角，四个所述辅助支撑腿的下端均螺纹连接有螺纹柱，四个所述螺纹柱的下端均转动连接有缓冲支撑垫，四个所述螺纹柱的表面均固定连接有调节六角块。

优选的，所述第一支撑板的数量为两个，两个所述第一支撑板对称设置在支撑平台的上表面，所述第一滚轴的数量为若干个，若干个所述第一滚轴分为两组，两组所述第一滚轴分别呈线性阵列设置在两个第一支撑板的上表面。

优选的，所述第二支撑板和压板的数量均为两个，两个所述第二支撑板分别设置在两个第一支撑板的上表面，两个所述第二支撑板的相对面均开设有梯形槽，两个所述压板的相向面均固定连接有与梯形槽相适配的滑块。

优选的，所述限位杆的数量为四个，每两个限位杆为一组，两组所述限位杆分别设置在两个第二支撑板的上表面，同组两个所述限位杆对称设置在调节螺纹杆的两侧，两组所述限位杆的下端分别与两个压板的上表面固定连接。