[发明专利]掩膜板与掩膜板组件有效

专利信息
申请号: 202011172445.X 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN112281113B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 刘华猛;沈阔;白珊珊;王伟伟;刘佳宁;王蓓;张智辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 组件
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括:

刻蚀区,包括相背的第一端与第二端;所述刻蚀区在所述第一端与第二端中的至少一端的边缘朝向所述刻蚀区的外围延伸有多个刻蚀部,所述刻蚀部包括多个第二开孔;

焊接区,位于所述刻蚀区的所述第一端与所述第二端;

开孔区,形成于所述刻蚀区的第一端和第二端,且位于所述焊接区背离所述刻蚀区的一侧,所述开孔区包括多个第一开孔;所述开孔区包括多个子开孔区,所述子开孔区包括多个所述第一开孔,多个所述子开孔区沿所述开孔区背离所述刻蚀区的方向间隔分布;所述子开孔区的形状呈沿预设方向延伸的条状,所述预设方向与所述开孔区背离所述刻蚀区的方向相交;

无刻蚀区,位于所述刻蚀区的所述第一端与所述第二端,且位于所述开孔区背离所述刻蚀区的一侧。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述刻蚀区在所述第一端与第二端的边缘均形成有所述刻蚀部。

3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述刻蚀部的形状呈矩形、三角形、球冠形或椭圆形中的一种。

4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,多个所述刻蚀部的形状相同且阵列分布。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板,其特征在于,位于所述第一端与所述第二端的至少一端的所述焊接区包括多个子焊接区,所述子焊接区包括多个第三开孔。

6.一种掩膜板组件,其特征在于,包括:

框架,形成有镂空区;

多个权利要求1-5任一项所述的掩膜板,设于所述框架上,所述焊接区与所述框架连接,所述刻蚀区与所述镂空区位置对应设置。

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