[发明专利]一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸在审
| 申请号： | 202011173092.5 | 申请日： | 2020-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN114480401A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 谭蔚泓;王雪强;何嘉轩;彭天欢;司马颖钰;符婷 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | C12N15/115 | 分类号： | C12N15/115;A61K47/54;A61K31/7076;A61P35/00;A61P35/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 严晨;许亦琳 |
| 地址： | 410082 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 法拉 修饰 核苷酸 | ||
1.一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，包括核酸适配体片段，所述核酸适配体片段修饰有氯法拉滨亚磷酰胺单体基团。
2.如权利要求1所述的一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述核酸适配体片段修饰有一个或多个氯法拉滨亚磷酰胺单体基团，所述氯法拉滨亚磷酰胺单体基团修饰于核酸适配体片段的5’端和/或修饰于核酸适配体片段的3’端和/或添加于核酸适配体片段的中间。
3.如权利要求2所述的一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述氯法拉滨亚磷酰胺单体基团与核酸适配体片段之间通过磷酸二脂键连接；
和/或，修饰于核酸适配体片段的5’端的氯法拉滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
添加于核酸适配体片段的中间的氯法拉滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
修饰于核酸适配体片段的3’端的氯法拉滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
4.如权利要求1所述的一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述核酸适配体片段还修饰有吉西他滨亚磷酰胺单体基团。
5.如权利要求4所述的一种吉西他滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述核酸适配体片段修饰有一个或多个吉西他滨亚磷酰胺单体基团，所述吉西他滨亚磷酰胺单体基团修饰于核酸适配体片段的5’端和/或修饰于核酸适配体片段的3’端和/或添加于核酸适配体片段的中间。
6.如权利要求5所述的一种吉西他滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述吉西他滨亚磷酰胺单体基团与核酸适配体片段之间通过磷酸二脂键连接；
和/或，修饰于核酸适配体片段的5’端的吉西他滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
添加于核酸适配体片段的中间的吉西他滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
修饰于核酸适配体片段的3’端的吉西他滨亚磷酰胺单体基团的化学结构式如下所示：
7.如权利要求1所述的一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述核酸适配体片段的多核苷酸序列包括如SEQ ID NO.11～20其中之一所示的序列。
8.如权利要求1所述的一种氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸，其特征在于，所述氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸的多核苷酸序列包括如SEQ ID NO.1～10其中之一所示的序列。
9.如权利要求1～8任一权利要求所述的氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸的制备方法，包括：
将氯法拉滨亚磷酰胺单体和/或吉西他滨亚磷酰胺单体通过固相合成法与核酸适配体片段连接；
优选的，固相合成法的反应温度为15～35℃，反应时间为1～20分钟，空气湿度为30％～70％；
和/或，所述氯法拉滨亚磷酰胺单体的化学结构式如下所示：
和/或，所述吉西他滨亚磷酰胺单体的化学结构式如下所示：
10.如权利要求1～8任一权利要求所述的氯法拉滨修饰的寡聚核苷酸在制备药物中的用途。
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