[发明专利]切割带和切割芯片接合薄膜在审
申请号: | 202011175219.7 | 申请日: | 2020-10-28 |
公开(公告)号: | CN112778922A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 中浦宏;木村雄大;武田公平;每川英利;植野大树 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/29 | 分类号: | C09J7/29;C09J7/24;C09J7/30;C09J133/08;C09J133/00;C09J163/00;C09J161/06;C09J11/04;H01L21/683 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 切割 芯片 接合 薄膜 | ||
【权利要求书】:
1.一种切割带,其是在基材层上层叠有粘合剂层的切割带,
其在-10℃下的拉伸储能模量为50MPa以上且250MPa以下。
2.根据权利要求1所述的切割带,其在-10℃下的损耗系数为0.07以上且0.18以下。
3.根据权利要求1或2所述的切割带,其在-10℃下的断裂伸长率为450%以上且600%以下。
4.一种切割芯片接合薄膜,其具备:
在基材层上层叠有粘合剂层的切割带;以及
层叠在所述切割带的粘合剂层上的芯片接合层,
所述切割芯片接合薄膜在-10℃下的拉伸储能模量为50MPa以上且250MPa以下。
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