[发明专利]一种方片边缘堆胶的去除方法在审
申请号: | 202011177623.8 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112162471A | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 边疆;王惠生;朴勇男;张德强 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;G03F7/40 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 于晓波 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 边缘 去除 方法 | ||
1.一种方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:该方法是针对方片上涂覆的光刻胶进行边缘堆胶去除,具体包括如下步骤:
(1)方片传送至涂胶单元涂覆光刻胶;
(2)在光刻胶涂覆时,采用化学方式对方片边缘区域胶膜进行部分去除,即减薄晶圆边缘区域胶膜厚度,并控制减薄区域的大小;
(3)将方片边缘减薄后,将方片的旋转转速调整至1200r-1400r,旋转5s,使方片减薄的边缘部分重新挂胶,且使减薄区域的胶膜与中心光刻胶厚度一致;
(4)涂覆光刻胶后的方片传送至热板进行后烘处理。
2.根据权利要求1所述的方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:步骤(1)中,涂覆的光刻胶粘度为10-30cp,玻璃基底方片上所形成胶膜的厚度为1μm-5μm。
3.根据权利要求1所述的方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:步骤(2)中,采用化学方式对方片进行边缘堆胶的去除时:目标去除宽度为W1,设POS1为方片对角线上一点,则W1为POS1到方片外角的距离,设置POS2为在方片对角线上且在方片边缘外侧的点(在方片对角线外),喷洒化学品(去除液)的针头在POS1和POS2之间进行往复扫描,通过控制化学品流量、针头角度、扫描速度和扫描时间,使方片边缘的光刻胶减薄至其初始厚度的50%~60%。
4.根据权利要求3所述的方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:步骤(2)中,POS1与POS2之间的距离为2-4mm;采用化学方式(EBR)喷酒化学品时,化学品流量、针头角度、扫面速度以及扫描时间,需要根据方片上的胶膜厚度、特性等确定。
5.根据权利要求3所述的方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:方片边缘的光刻胶减薄的厚度为0.5-2μm。
6.根据权利要求1所述的玻璃基底方片边缘堆胶的去除方法,其特征在于:步骤(4)中,所述后烘处理的烘烤温度110-130℃,烘烤时间90-180s。
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