[发明专利]X射线相位成像装置在审

专利信息
申请号: 202011178422.X 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112869756A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 佐野哲;田边晃一;和田幸久;德田敏;堀场日明;森本直树 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 射线 相位 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种X射线相位成像装置,具备:

X射线源;

检测器,其检测从所述X射线源照射出的X射线;

多个光栅,所述多个光栅配置在所述X射线源与所述检测器之间;

移动机构,其使被摄体与摄像系统相对地平移,所述摄像系统由所述X射线源、所述检测器以及所述多个光栅构成;以及

图像处理部,其基于一边通过所述移动机构使所述被摄体与所述摄像系统相对地平移一边获取到的多个图像来生成相位对比度图像,并且基于在所述相位对比度图像中沿着从所述X射线的光轴方向看来与平移方向正交的正交方向产生的渐变的分布状态来校正所述渐变。

2.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于所述相位对比度图像的沿着所述正交方向的像素值的分布,来校正所述渐变。

3.根据权利要求2所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于所述相位对比度图像的从所述正交方向上的一端部到另一端部的所述像素值的分布,来校正所述渐变。

4.根据权利要求2所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于所述相位对比度图像的不存在所述被摄体的区域的所述像素值的分布,来校正所述渐变。

5.根据权利要求4所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于所述相位对比度图像的所述平移方向上的端部附近的所述像素值的分布,来校正所述渐变。

6.根据权利要求2所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述像素值的分布是在所述平移方向上具有规定宽度的像素组的平均像素值的分布。

7.根据权利要求2所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于通过使所述像素值的分布在所述平移方向上延伸而生成的校正对应图,来校正所述渐变。

8.根据权利要求7所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:基于通过以使所述平移方向上的像素数与所述相位对比度图像的所述平移方向上的像素数相同的方式使所述像素值的分布在所述平移方向上延伸而生成的所述校正对应图,来校正所述渐变。

9.根据权利要求7所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为:通过将所述相位对比度图像除以所述校正对应图或者从所述相位对比度图像减去所述校正对应图,来校正所述渐变。

10.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述图像处理部构成为在将多个相位对比度图像接合而成的所述相位对比度图像中校正所述渐变。

11.根据权利要求1所述的X射线相位成像装置,其特征在于,

所述相位对比度图像包括相位微分像和暗场像。

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