[发明专利]蒸镀装置和显示装置的制造方法

说明书

本发明提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本发明提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l₁)，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l₂)，将第一间隙(l₁)和上述第二间隙(l₂)调节为满足式3，

技术领域

本发明的一个实施方式涉及蒸镀装置。此外，本发明的一个实施方式涉及使用蒸镀装置的显示装置的制造方法。

背景技术

作为显示装置，已知在显示区域的发光元件(有机EL元件)中使用有机电致发光材料(有机EL材料)的有机EL显示装置(Organic Electroluminescence Display：有机电致发光显示器)。有机EL显示装置是通过使有机EL材料发光而实现显示的所谓的自发光型显示装置。

有机EL元件在阳极(anode)与阴极(cathode)之间包含有机EL材料。作为有机EL材料，已知低分子材料或高分子材料，但多使用能够用蒸镀法形成薄膜的低分子材料。

作为在蒸镀法中使用的蒸镀装置之一，已知在蒸镀装置内竖立配置基板的纵型蒸镀装置(例如参照专利文献1和专利文献2)。纵型蒸镀装置将大型基板竖立起来处理，因此与横型蒸镀装置相比，有能够减小蒸镀装置的占有面积这样的优点。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-84544号公报。

专利文献2：日本特开2014-70239号公报。

发明内容

在纵型蒸镀装置中，与横型蒸镀装置不同，将基板和蒸镀掩模沿纵方向(铅垂方向、重力方向)竖立配置。因此，纵型蒸镀装置有与横型蒸镀装置不同的问题。例如，在基板和蒸镀掩模的位置对准中，利用磁力将蒸镀掩模吸引到基板附近，在横型蒸镀装置的情况下，因为磁力的方向与重力的方向一致，所以位置对准中的重力的影响小。另一方面，在纵型蒸镀装置的情况下，因为磁力的方向和重力的方向不同，所以发生由重力的影响导致的位置偏移。当基板大型化时，位置对准中的位置偏移的量变得显著。

本发明的发明人们反复专心研究后，发现在纵型蒸镀装置中，基板和蒸镀掩模的位置对准前的基板与蒸镀掩模的距离(间隙)，与位置偏移之间存在相关性。此外，本发明的发明人们发现，通过控制基板与蒸镀掩模的间隙，能够减少由纵型蒸镀装置中的位置偏移导致的不良情况。

在横型蒸镀装置中，即使手动进行基板与蒸镀掩模的间隙的调节，也充分能够进行位置偏移的调节。但是，在纵型蒸镀装置中，在利用手动调节基板与蒸镀掩模的间隙的情况下，需要多次进行微调节，过于耗费时间，因此难以按每个基板调节间隙。

鉴于上述问题，本发明的目的之一为提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本发明的课题之一为提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。

本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l₁)，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l₂)，将上述第一间隙(l₁)和上述第二间隙(l₂)调节为满足式3。