[发明专利]一种共用深N阱的SPAD器件及其构成的光探测阵列有效

专利信息
申请号: 202011181289.3 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112490300B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 刘马良;孙文博;郭若昱;王玉鑫;杨茂龙;朱樟明 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0232;H01L31/107;H01L27/144
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 共用 spad 器件 及其 构成 探测 阵列
【说明书】:

发明公开了一种共用深N阱的SPAD器件及其构成的光探测阵列,通过改变器件内部阴极N+以及阳极P+的位置,得阴极N+区域变小,阳极P+区域变大,使得有效的光探测区的面积占比更高,提高SPAD器件以及光探测阵列的填充因数。

技术领域

本发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种共用深N阱的SPAD器件及其构成的光探测阵列。

背景技术

SPAD是一种具有单光子探测能力的光电探测雪崩二极管,SPAD构成的SPAD光探测阵列主要用在激光雷达的光信号探测中,SPAD光探测阵列首先在探测到光信号后,将光信号转化为电信号。

现有技术常用的传统结构的SPAD如图1所示,由传统结构的SPAD构成的SPAD光探测阵列如图2所示,其刨面图如图3所示。在图1中MICROLENS为透镜,用于增加进光角度;DTI为深槽隔离,对进入器件的光进行反射,同时对在两个相邻的SPAD中起到隔离的作用;SUBSTRATE为器件的衬底;DNW为深N阱;NW为N阱;P+为SPAD的阳极;N+为SPAD的阴极;STI为浅槽隔离;将P+和N+进行隔离;PW为P阱;M1为第一层金属,通过CT和P+,N+连接;M2为第二层金属,通过V1与M1连接;M1,M2都用于将P+和N+连接到偏置电压;CT和V1都为通孔;CT用于连接M1和P+或者N+;V1用于连接M1和M2。在图3中,两个SPAD器件相邻的阴极(N+)通过各自的第一通孔(CT)与各自的第一层金属(M1)相连,两个相邻的SPAD器件的深N阱(DNW)存在间隙,两个SPAD器件相邻的一侧共用一个深槽隔离(DTI)

SPAD光探测阵列的工作原理是:激光器发射激光,激光照射到物体上,然后物体发生反射,反射的激光被SPAD光探测阵列时,光信号从器件背面通过透镜进入到器件内部,光子在P+和DNW的交接处触发雪崩效应,器件产生雪崩电流,将光信号转化为电信号。

由于传统结构的SPAD组成的SPAD光探测阵列中每个SPAD是相互独立的,如图2所示,使得有效的光探测区域占整占阵列面积的比例较小,填充因数比较低。因此亟待一种可以提高填充因数的SPAD器件及由该SPAD器件构成的SPAD光探测阵列。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题,本发明提供了一种共用深N阱的SPAD器件及其构成的光探测阵列。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:

第一方面本发明实施例提供了一种共用深N阱的SPAD器件,包括:透镜MICROLENS、深槽隔离DTI、衬底SUBSTRATE、深N阱DNW、N阱NW、SPAD的阳极P+、SPAD的阴极N+、浅槽隔离STI、P阱PW、第一层金属M1、第二层金属M2、多个第一通孔CT以及第二通孔V1,每个第一通孔CT各自独立,所述阴极N+设置在所述SPAD器件内部的每侧,每侧的阴极N+上设置所述N阱NW,在所述SPAD器件内部从每侧向中心的方向,依次是浅槽隔离STI、P阱PW、阳极P+,在所述SPAD器件内部从上至下的方向,在每侧的阴极N+上,每侧阴极N+通过该侧的第一通孔CT与该侧的第一金属层M1相连,在每一侧的阴极N+上的第一层金属M1相互连接形成闭环结构,在所述阳极P+上,该阳极P+通过第一通孔CT与第一层金属M1相连,该第一层金属M1通过第二通孔V1与第二层金属M2相连,在所述阳极P+上的第一金属层M1与在每一侧的阴极N+上的第一层金属M1各自独立。

可选的,所述SPAD器件是正多边形或圆形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011181289.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top