[发明专利]蒸镀坩埚

权利要求书

1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：

坩埚本体，所述坩埚本体包括底壁和环绕所述底壁设置的侧壁，所述底壁和所述侧壁围成具有开口的容纳腔；所述侧壁靠近所述容纳腔的表面为第一表面，所述第一表面包括与所述底壁平行的支撑面；

网板组件，所述网板组件包括至少一块具有网孔的网板，所述网板组件抵接于所述支撑面；

喷嘴，所述喷嘴安装于所述容纳腔的开口处，且所述喷嘴具有喷气孔。

2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述侧壁包括朝向所述容纳腔内侧延伸的凸缘，所述凸缘位于所述底壁与所述容纳腔的开口之间，且所述凸缘沿所述容纳腔的周向为环形；所述支撑面为所述凸缘远离所述底壁的表面。

3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一表面还包括沿垂直于所述底壁方向延伸的第一延伸段和第二延伸段，所述第二延伸段位于所述第一延伸段远离所述底壁的一侧，且所述第一延伸段的直径小于所述第二延伸段的直径；所述支撑面的一侧与所述第一延伸段连接，另一侧与所述第二延伸段连接。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板的数量为多个，多个所述网板层叠设置，且任意相邻两个所述网板之间具有避让间隙。

5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板包括：

下层网板，所述下层网板包括网板本体和环绕所述网板本体设置的支撑框，所述支撑框的内侧设有台阶；

上层网板，所述上层网板套设于所述支撑框内，且所述上层网板抵接于所述台阶远离所述网板本体的表面。

6.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述支撑框远离所述网板本体的边缘设有多个向内延伸的卡接凸起，多个所述卡接凸起沿所述支撑框的周向间隔设置；

所述上层网板的周向边缘设有多个与所述卡接凸起对应的卡槽，且所述上层网板卡接于所述卡接凸起与所述台阶之间，且所述上层网板能够相对所述支撑框转动。

7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述上层网板的所述卡槽所在位置处的径向尺寸大于所述台阶的内侧边缘的直径。

8.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板包括平面网板，所述平面网板包括网孔区和环绕所述网孔区的平板区，所述网孔区内设有多个网孔，所述网孔区的厚度与所述平板区的厚度相等；

所述网板组件还包括环形支撑件，所述环形支撑件安装于任意两个相邻的所述平面网板之间，且所述环形支撑件的两端分别与两个所述平面网板抵接。

9.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述避让间隙内填充有氮化硅颗粒。

10.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板组件由耐高温且不与镀膜材料反应的材料制成。