[发明专利]蒸镀坩埚

说明书

本发明公开了一种蒸镀坩埚，涉及蒸镀设备技术领域，能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。

技术领域

本发明涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及蒸镀坩埚。

背景技术

蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热方式使镀膜材料(或称膜料)气化并沉积到基片表面的工艺；广泛应用于显示面板的制作过程。蒸镀坩埚是蒸镀工艺中最重要的设备之一，现有技术提供的蒸镀坩埚，通常包括具有容纳腔的坩埚本体和设置于坩埚本体开口处的喷嘴。

现有技术中的蒸镀坩埚，随着蒸镀工艺的持续进行，坩埚本体内的镀膜材料逐渐减少，镀膜材料的蒸气生成速度逐渐降低，坩埚本体内的气体压力降低，导致喷嘴喷气速率出现波动；而且会在喷嘴内侧附着并持续生长镀膜材料(通常为镀膜材料的蒸气在喷嘴内侧壁上凝华形成)，影响蒸镀工艺的稳定性，以及蒸镀产品的合格率。

发明内容

本发明的实施例提供一种蒸镀坩埚，能够增加蒸镀过程中蒸镀坩埚内的气体压力，降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，同时降低镀膜材料在喷嘴内侧附着以及持续生长的可能。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。

在一些实施例中，侧壁包括朝向容纳腔内侧延伸的凸缘，凸缘位于底壁与容纳腔的开口之间，且凸缘沿容纳腔的周向为环形；支撑面为凸缘远离底壁的表面。

在一些实施例中，第一表面还包括沿垂直于底壁方向延伸的第一延伸段和第二延伸段，第二延伸段位于第一延伸段远离底壁的一侧，且第一延伸段的直径小于第二延伸段的直径；支撑面的一侧与第一延伸段连接，另一侧与第二延伸段连接。

在一些实施例中，网板的数量为多个，多个网板层叠设置，且任意相邻两个网板之间具有避让间隙。

在一些实施例中，网板包括下层网板和上层网板，下层网板包括网板本体和环绕网板本体设置的支撑框，支撑框的内侧设有台阶；上层网板套设于支撑框内，且上层网板抵接于台阶远离网板本体的表面。

在一些实施例中，支撑框远离网板的边缘设有多个向内延伸的卡接凸起，多个卡接凸起沿支撑框的周向间隔设置；上层网板的周向边缘设有多个与卡接凸起对应的卡槽，且上层网板卡接于卡接凸起与台阶之间，上层网板能够相对支撑框转动。

在一些实施例中，上层网板的卡槽所在位置处的径向尺寸大于台阶的内侧边缘的直径。

在一些实施例中，网板包括平面网板，平面网板包括网孔区和环绕网孔区的平板区，网孔区内设有多个网孔，且网孔区与平板区的厚度相等；网板组件还包括环形支撑件，环形支撑件安装于任意两个相邻的平面网板之间，且环形支撑件的两端分别与两个平面网板抵接。

在一些实施例中，避让间隙内填充有氮化硅颗粒。

在一些实施例中，网板组件由耐高温且不与镀膜材料反应的材料制成。