[发明专利]光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法有效

专利信息
申请号: 202011185018.5 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112099310B 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 魏来;罗招龙;李可玉;朱安康;林建佑 申请(专利权)人: 南京晶驱集成电路有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36;G03F1/84;G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 210046 江苏省南京市栖霞区迈*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阈值 获取 方法 以及 辅助 图形 显影 情况 检测
【权利要求书】:

1.一种光强阈值的获取方法,其特征在于,包括:

在测试光罩上设置测试图形组,所述测试图形组包括至少两个测试图形,每个所述测试图形包括主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形,且同一测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小;

利用所述测试光罩进行晶圆的光刻,并检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况;

筛选出所述辅助图形被显影的所述测试图形和与其相邻的所述辅助图形未被显影的所述测试图形;

对筛选出的所述辅助图形被显影的所述测试图形和所述辅助图形未被显影的所述测试图形进行模拟,以获取两个所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值;以及,

将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。

2.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法,其特征在于,对筛选出的所述辅助图形未被显影的所述测试图形和所述辅助图形被显影的所述测试图形进行模拟,以获取两个所述测试图形的光强分布图,并从所述光强分布图中获取所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值。

3.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法,其特征在于,所述最大光强值随所述主图形的宽度的增加而增大。

4.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法,其特征在于,通过关键尺寸扫描电子显微镜检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况。

5.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法,其特征在于,每个所述测试图形包括至少两个主图形,且每个所述测试图形内部的任意相邻的两个主图形之间的间距相等。

6.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法,其特征在于,所述主图形的宽度小于1μm。

7.一种辅助图形显影情况的检测方法,其特征在于,包括:

提供一待检测图形,所述待检测图形包括主图形和设置在所述主图形周围的辅助图形;

将OPC模型添加到检测工具中,所述OPC模型的阈值为权利要求1至6中任一项所述的光强阈值;

采用所述检测工具对所述待检测图形内的辅助图形显影情况进行检测。

8.如权利要求7所述的辅助图形显影情况的检测方法,其特征在于,采用所述检测工具对所述待检测图形内的辅助图形的显影情况进行检测的过程包括:

采用检测工具中的所述OPC模型对所述待检测图形进行模拟,得到所述待检测图形的光强分布图;

通过所述光强分布图得到所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值;

根据所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值与所述OPC模型的阈值比较结果,判断所述待检测图形内的辅助图形是否被显影。

9.如权利要求8所述的辅助图形显影情况的检测方法,其特征在于,所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值超过所述OPC模型的阈值,则判定所述待检测图形内的辅助图形被显影;反之,则判定所述待检测图形内的辅助图形未被显影。

10.如权利要求7所述的辅助图形显影情况的检测方法,其特征在于,所述检测工具包括光刻规则检查工具。

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