[发明专利]一种反应磁控溅射分离式布气法

权利要求书

1.一种反应磁控溅射分离式布气法，其特征在于：包括气体流量控制仪(1)、密封箱(12)、磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)、被溅射玻璃基片(14)，所述气体流量控制仪(1)下端连接有所述密封箱(12)，所述气体流量控制仪(1)前端设置有气体流量显示窗口(2)，所述气体流量控制仪(1)一侧设置有进气管(6)，所述进气管(6)出气端连接气体流量计(3)，所述气体流量计(3)通过连接头(5)连接气体通断电磁阀(4)，所述气体通断电磁阀(4)通过连接管(7)连接栾生对靶布气分流三通(8)，所述栾生对靶布气分流三通(8)两端均连接有气体输入管(9)，所述气体输入管(9)出气端连接迷宫布气装置(10)，所述迷宫布气装置(10)上设置有迷宫布气装置气体扩散小孔(11)，所述密封箱(12)前端设置有密封盖(13)，所述密封箱(12)内部设置有被溅射玻璃基片(14)，所述被溅射玻璃基片(14)下侧设置有两个磁控溅射旋转阴极对靶工作气体迷宫布气装置(15)，所述磁控溅射旋转阴极对靶工作气体迷宫布气装置(15)下侧设置有磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)，所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)之间设置有磁控溅射等离子体物理面可调控挡板(18)，所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)上前侧和两侧成型有连接丝孔(21)，所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)下侧设置有两个磁控溅射旋转阴极对靶反应气体迷宫布气装置(16)，所述磁控溅射旋转阴极对靶工作气体迷宫布气装置(15)和所述磁控溅射旋转阴极对靶反应气体迷宫布气装置(16)内部均连接有迷宫布气装置(10)，所述磁控溅射旋转阴极对靶反应气体迷宫布气装置(16)下侧设置有两个磁控溅射旋转阴极栾生对靶(19)，所述磁控溅射旋转阴极栾生对靶(19)内侧设置有磁控溅射旋转阴极栾生对靶磁控磁场源(20)；

所述气体流量控制仪(1)设置有两组，分别连接外部的氩气和氧气，且第一组的所述连接管(7)连接所述磁控溅射旋转阴极对靶工作气体迷宫布气装置(15)内侧的所述迷宫布气装置(10)，第二组的所述连接管(7)连接所述磁控溅射旋转阴极对靶反应气体迷宫布气装置(16)内侧的所述迷宫布气装置(10)。

2.根据权利要求1所述的一种反应磁控溅射分离式布气法，其特征在于：所述连接头(5)通过螺纹连接所述气体流量计(3)和所述气体通断电磁阀(4)，所述连接管(7)通过螺纹连接所述气体通断电磁阀(4)和所述栾生对靶布气分流三通(8)。

3.根据权利要求1所述的一种反应磁控溅射分离式布气法，其特征在于：所述连接丝孔(21)成型于所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)，所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)通过螺钉连接所述密封箱(12)，所述磁控溅射等离子体物理面可调控挡板(18)滑动连接所述磁控溅射等离子体物理面基本挡板(17)。

4.根据权利要求1所述的一种反应磁控溅射分离式布气法，其特征在于：所述气体输入管(9)通过螺纹连接所述栾生对靶布气分流三通(8)和所述迷宫布气装置(10)，所述迷宫布气装置气体扩散小孔(11)一体成型于所述迷宫布气装置(10)。