[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 202011190180.6 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112746252B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 松本行生 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
本发明提供能够实现维护性的提高的成膜装置。该成膜装置的特征在于,具备:靶单元(100),设置在腔室内,具有靶(110);端块(200),具有靶单元(100)的旋转中心轴线方向的一端侧的轴承功能;以及支承块(300),具有靶单元(100)的旋转中心轴线方向的另一端侧的轴承功能,用于使靶单元(100)旋转的驱动力从端块(200)内与靶单元(100)连接,供给于靶单元(100)的冷却液与施加于靶(110)的电压从支承块(300)内与靶单元(100)连接。
技术领域
本发明涉及通过溅射在基板上形成薄膜的成膜装置。
背景技术
在通过溅射在基板上形成薄膜的成膜装置中,已知有成为阴极的一部分的圆筒状的靶一边旋转一边进行溅射的技术。在这样的技术中,在靶的两侧分别设置有轴承功能。
以往,采用在靶的单侧集中地设置用于使靶旋转的驱动系统、向靶的内部供给冷却液的供给系统、以及向靶施加电压的电气系统的结构。因此,存在靶的单侧大型化的倾向。由此,存在更换靶等时的维护作业变得大规模的倾向。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-108633号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于提供一种能够实现维护性的提高的成膜装置。
用于解决课题的技术方案
本发明为了解决上述课题而采用了以下的技术方案。
本发明的成膜装置通过溅射在基板上形成由靶的构成原子形成的薄膜,其特征在于,
该成膜装置具备:
腔室;
靶单元,设置在所述腔室内,具有所述靶;
第一壳体单元,具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的一端侧的轴承功能;以及
第二壳体单元,具有所述靶单元的旋转中心轴线方向的另一端侧的轴承功能,
用于使所述靶单元旋转的驱动力从所述第一壳体单元内与所述靶单元连接,
供给于所述靶单元的冷却液和施加于所述靶的电压从所述第二壳体单元内与所述靶单元连接。
根据本发明,由于驱动系统、供给系统和电气系统没有集中地配置在靶单元的旋转中心轴线方向的一侧,因此能够抑制该一侧大型化。由此,能够提高维护性。
发明效果
如以上说明的那样,根据本发明,能够实现维护性的提高。
附图说明
图1是本发明的实施例的成膜装置的概略结构图。
图2是表示本发明的实施例的磁铁的配置结构的概略图。
图3是根据本发明实施例的旋转阴极的结构示意图。
图4是根据本发明实施例的旋转阴极的结构示意图。
图5是根据本发明实施例的旋转阴极的结构示意图。
附图标记说明
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