[发明专利]高分辨率X-射线防散射滤线栅格及其制造方法

说明书

本发明公开一种高分辨率X‑射线防散射滤线栅格及其制造方法，涉及诊断用X射线成像设备领域领域，采用高铅当量玻璃微孔阵列取代传统的采用铅条和碳钎维板制作滤线栅，能够吸收95%以上的沿其他方向入射的散射X射线。制作过程为，当量玻璃管拉制空芯玻璃纤维单丝，进行规制矩阵排列、拉制一次复丝，排板、真空熔合为空芯阵列，再用可溶性填充材料填充微米级纤维通道，进行切片、研磨、抛光等冷加工处理，然后用高频超声清洗机清洗掉可溶性填充材料，最终制作出纤维均匀排列、通道壁光滑的空芯阵列滤线栅阵列。本发明所制得的滤线栅，其栅格微孔通道排列规整、通道内壁光滑，具备高对比度、高分辨率的优势，对摩尔纹现象的消除更加彻底。

技术领域

本发明涉及X射线诊断成像设备领域以及高铅当量玻璃微孔阵列技术领域，具体为一种高分辨率X-射线防散射滤线栅格及其制造方法。

背景技术

在X-射线成像中广泛使用防散射滤线栅(grid)来增强图像质量。从点源发射的X-射线穿过患者或物体，然后在合适的X-射线检测器中加以检测。X-射线成像通过按照X-射线检测器上的位置检测X-射线的强度而工作。具有较小强度的较暗区域对应于物体中的较高密度或厚度区域，而具有较大强度的较亮区域则对应于物体中的较低密度或厚度区域。这种方法依赖于直接穿过物体或被完全吸收的X-射线。但是，X-射线也可能在患者或物体中经历散射过程，主要是康普顿散射。这些X-射线生成图像噪声，并且因而降低图像的质量。为了减少这些散射X-射线的影响，采用防散射滤线栅。传统的防散射滤线栅一般采用铅条和铝条交叉叠在一起制作而成，或者在碳钎维基板上切割凹槽再进行灌铅后封装而成。

防散射滤线栅性能的主要度量之一是定量改善因子(QIF，quantumimprovementfactor)，其中QIF＝Tp²/Tt。Tp为滤线栅的一次辐射透过率，Tt是总辐射透过率。当QIF≥1时，表示滤线栅能够改善图像质量，而QIF＜1时，表示滤线栅实际上对图像质量有损害。

防散射滤线栅的首要设计度量是线频率、线厚度和滤线栅高度，通常将它们表示为栅格比。通常以线/cm为单位表示的线频率给出在给定距离中吸收材料带的数量。线厚度正好是吸收铅条的厚度，它通常用微米为单位表示。栅格比是滤线栅高度与空隙距离(一对滤线栅线之间的低吸收材料的量)之比。在制造滤线栅时所使用的材料以及滤线栅覆盖物的类型和厚度也会影响滤线栅性能，滤线栅覆盖物是用于包裹滤线栅以提供机械支撑的非活性薄片。在设计防散射滤线栅时，由于制造精度的局限性，用非常薄的铅条制造滤线栅存在限制，所以滤线栅线总是比需要的厚，从而影响成像效果。另外一种利用细锯来在石墨衬底中开槽并用铅填充这些槽来制作滤线栅同样也受到制造精度的限制。

因此，需要不断改进X射线滤线栅的涉及和制造方法来提高成像对比度和诊断效果。

目前，尚未涉及到一种采用高铅当量玻璃微孔阵列制造技术来制作X射线防散射滤线栅，由于光纤阵列在结构精度和纳米级应用上有着突出的优点，结合X射线所需的吸收材料制作出的X射线防散射滤线栅是一种颠覆传统滤线栅的全新制作方法。

发明内容

本发明提供一种高分辨率X-射线防散射滤线栅格及其制造方法，突破现有的滤线栅制造精度的限制，结合高铅当量玻璃微孔阵列制造工艺所制的滤线栅格单元规整，一致性较高。

本发明通过所提供的高分辨率X-射线防散射滤线栅格，采用高铅当量玻璃微孔阵列制作。

本发明通过所提供的高分辨率X-射线防散射滤线栅格的制造方法，包括如下步骤：

（1）采用冷加工设备对铅玻璃管进行内外径加工，使空芯铅玻璃管的外径达到Φ27.5~28.5mm，壁厚2mm，并对内外壁进行抛光，使表面粗糙度达到10纳米级；