[发明专利]一种半导体制备用清洗装置

权利要求书

1.一种半导体制备用清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)下表面的四角均固定连接有固定底座(2)，所述清洗箱(1)的正面设置有门板(3)，所述门板(3)的正面固定连接有操作把手(4)，所述清洗箱(1)的内底部固定连接有固定板(5)，所述固定板(5)上表面的左右两侧均设置有移动转动装置(6)，所述移动转动装置(6)的内侧设置有夹持装置(7)，所述清洗箱(1)右侧面的底部连通有排水阀门(8)，所述清洗箱(1)上表面的左侧固定连接有存放箱(9)，所述存放箱(9)的上表面设置有进料盖(10)，所述清洗箱(1)上表面的右侧固定连接有水泵(11)，所述水泵(11)的输入端连通有进水管(12)，所述水泵(11)的输出端连通有出水管(13)，所述门板(3)的上表面固定连接有收集管(14)，所述清洗箱(1)内壁的左右两侧均固定连接有电动推杆(15)，所述出水管(13)的底端连通有清洗喷头(16)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述移动转动装置(6)包括固定立板(601)，所述固定立板(601)的下表面固定连接有稳定块(602)，所述固定立板(601)的内侧面固定连接有十字稳定板(603)，所述固定立板(601)的外侧面设置有转动轴承(604)，所述转动轴承(604)的内部固定连接有转动轴(605)，所述转动轴(605)的外端固定连接有蜗轮(606)，所述固定立板(601)的外侧面固定连接有驱动电机(607)，所述驱动电机(607)的输出端固定连接有蜗杆(608)，所述蜗轮(606)与蜗杆(608)啮合，所述转动轴(605)的内端固定连接有转动盘(609)，所述转动盘(609)内侧面设置有滑动柱(610)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述夹持装置(7)包括第一固定支架(701)，所述第一固定支架(701)的内侧设置有联动支撑杆(702)，所述联动支撑杆(702)的中部设置有稳定转轴(703)，所述联动支撑杆(702)的内侧设置有第二固定支架(704)，所述第二固定支架(704)的内侧面固定连接有夹紧弧形板(705)，所述夹紧弧形板(705)的外侧面固定连接有稳定支撑柱(706)，所述稳定支撑柱(706)的外表面设置有缓冲弹簧(707)。

4.根据权利要求2所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述转动盘(609)的正面开设有弧形通孔，弧形通孔的尺寸与滑动柱(610)的尺寸相适配。

5.根据权利要求2所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述转动轴承(604)的内侧面开设有T形滑槽，滑动柱(610)的外端固定连接有T形滑块，T形滑槽与T形滑块滑动连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述操作把手(4)的外表面设置有防滑层，防滑层的外表面均匀设置有防滑纹路。

7.根据权利要求1所述的一种半导体制备用清洗装置，其特征在于：所述门板(3)的背面设置有密封块，清洗箱(1)的正面开设有密封槽，密封块与密封槽相适配。