[发明专利]对量测数据的贡献的分离有效
申请号: | 202011207943.3 | 申请日: | 2017-02-17 |
公开(公告)号: | CN112255892B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | W·T·特尔;F·斯塔尔斯;M·J·马斯洛;R·阿努西亚多;M·乔彻姆森;H·A·J·克拉默;T·希尤维斯;P·C·欣南 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 数据 贡献 分离 | ||
1.一种用于处理量测数据的方法,包括:
通过从衬底上的第一图案的量测数据中去除第一组一个或多个处理变量的变化对所述量测数据的贡献,来获得第二组一个或多个处理变量的变化对所述量测数据的贡献;以及
由硬件计算机基于所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述第一图案的所述量测数据的贡献,来获得所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述衬底上的第二图案的量测数据的贡献。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括:通过基于所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述第二图案的所述量测数据的贡献调节所述第一组一个或多个处理变量中的一个或多个变量,来降低所述第二图案处的缺陷的概率。
3.根据权利要求1所述的方法,其中在不获得所述第二图案的所述量测数据的情况下,获得所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述第二图案的所述量测数据的贡献。
4.一种用于处理量测数据的方法,包括:
通过组合被建模的第一组一个或多个处理变量的变化对热斑的量测数据的贡献和未被建模的第二组一个或多个处理变量的变化对所述量测数据的贡献,来获得所述量测数据的估计;以及
由硬件计算机基于所述量测数据的估计来确定所述热斑处是否存在缺陷。
5.根据权利要求4所述的方法,其中在不对所述热斑执行量测的情况下,获得所述估计。
6.一种用于处理量测数据的方法,包括:
通过从图案的量测数据中去除第一组一个或多个处理变量的变化的贡献,来获得第二组一个或多个处理变量的变化对所述量测数据的贡献;以及
通过由硬件计算机对照所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述图案的所述量测数据的贡献拟合模型的参数来获得所述参数的值,所述模型用于确定所述第二组一个或多个处理变量的变化对所述量测数据的贡献。
7.一种非瞬态计算机可读介质,其上记录有指令,所述指令在由计算机执行时实现根据权利要求6所述的方法。
8.一种非瞬态计算机可读介质,其上记录有指令,所述指令在由计算机执行时执行:
获得被建模的第一处理变量对衬底上的图案的量测数据的第一贡献,其中所述第一贡献是根据与用来图案化所述衬底的光刻设备相关联的数据确定的;
获得未被建模的第二处理变量对所述图案的所述量测数据的第二贡献,其中所述第二处理变量的贡献是与由所述光刻设备在图案化所述衬底时使用的图案形成装置相关联的场内指纹以及与在使用所述光刻设备之前或之后的工艺中使用的设备相关联的场间指纹;以及
由硬件计算机通过组合所述第一贡献和所述第二贡献来获得所述量测数据。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011207943.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:安全DMA控制器及数据搬运方法
- 下一篇:一种带粒子荷电装置的内燃机
- 数据显示系统、数据中继设备、数据中继方法、数据系统、接收设备和数据读取方法
- 数据记录方法、数据记录装置、数据记录媒体、数据重播方法和数据重播装置
- 数据发送方法、数据发送系统、数据发送装置以及数据结构
- 数据显示系统、数据中继设备、数据中继方法及数据系统
- 数据嵌入装置、数据嵌入方法、数据提取装置及数据提取方法
- 数据管理装置、数据编辑装置、数据阅览装置、数据管理方法、数据编辑方法以及数据阅览方法
- 数据发送和数据接收设备、数据发送和数据接收方法
- 数据发送装置、数据接收装置、数据收发系统、数据发送方法、数据接收方法和数据收发方法
- 数据发送方法、数据再现方法、数据发送装置及数据再现装置
- 数据发送方法、数据再现方法、数据发送装置及数据再现装置