[发明专利]发光装置、光学装置以及测量装置在审
申请号: | 202011208454.X | 申请日: | 2020-11-03 |
公开(公告)号: | CN113314946A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 井口大介;逆井一宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片商业创新有限公司 |
主分类号: | H01S5/026 | 分类号: | H01S5/026;H01S5/042;H01S5/183;H01S5/42;G01B11/24;G01S7/484;G01S7/4865;G01S17/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 光学 以及 测量 | ||
1.一种发光装置,其特征在于,包括:
激光部;以及
第一电容元件与第二电容元件,对所述激光部供给驱动电流,
所述第一电容元件的等效串联电感比所述第二电容元件小,
所述第二电容元件的容量比所述第一电容元件大,搭载面积比所述第一电容元件小。
2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,
从所述第一电容元件输出并供给至所述激光部的驱动电流直至返回所述第一电容元件为止的第一电流路径长度,比从所述第二电容元件输出并供给至所述激光部的驱动电流直至返回所述第二电容元件为止的第二电流路径长度短。
3.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,
所述第二电流路径长度为所述第一电流路径长度的1.2倍以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的发光装置,其特征在于,
所述第一电容元件配置在比所述第二电容元件靠近所述激光部的位置。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的发光装置,其特征在于,
具有驱动所述激光部的驱动部,
所述第一电容元件配置在比所述第二电容元件靠近所述激光部及所述驱动部的位置。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的发光装置,其特征在于,
具有驱动所述激光部的驱动部,
所述激光部及所述驱动部分别为矩形形状,
所述激光部与所述驱动部之间的距离为所述激光部的一边的长度或所述驱动部的一边的长度的2倍以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的发光装置,其特征在于,
所述激光部是在共同的半导体基板上形成有多个面发光激光元件的面发光激光元件阵列。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的发光装置,其特征在于,
具有使从所述激光部出射的光的方向及扩展角中的至少一者发生变化的光学构件。
9.一种光学装置,其特征在于,包括:
如权利要求1至8中任一项所述的发光装置;以及
受光部,接收从所述发光装置所包括的激光部出射并由被测量物予以反射的光,
所述受光部输出信号,所述信号相当于从自所述激光部出射直至被所述受光部接收为止的时间。
10.一种测量装置,其特征在于,包括:
如权利要求9所述的光学装置;以及
三维形状确定部,基于从所述光学装置所包括的激光部出射并由被测量物予以反射而由所述光学装置所包括的受光部接收的光,来确定所述被测量物的三维形状,
所述测量装置对所述被测量物的三维形状进行测量。
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