[发明专利]发光装置、光学装置以及测量装置在审
申请号: | 202011208454.X | 申请日: | 2020-11-03 |
公开(公告)号: | CN113314946A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 井口大介;逆井一宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片商业创新有限公司 |
主分类号: | H01S5/026 | 分类号: | H01S5/026;H01S5/042;H01S5/183;H01S5/42;G01B11/24;G01S7/484;G01S7/4865;G01S17/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 光学 以及 测量 | ||
本发明提供一种发光装置、光学装置以及测量装置,与从单个种类的电容元件对激光部供给驱动电流的结构相比较,实现驱动电流的上升速度与装置的小型化的兼顾。发光装置包括:激光部;以及第一电容元件与第二电容元件,对所述激光部供给驱动电流,所述第一电容元件的等效串联电感比所述第二电容元件小,所述第二电容元件的容量比所述第一电容元件大,搭载面积比所述第一电容元件小。
技术领域
本发明涉及一种发光装置、光学装置以及测量装置。
背景技术
日本专利特开2008-252129号公报中记载了一种发光装置,其具有:陶瓷基板,具有透光性;发光元件,搭载于所述陶瓷基板的表面;配线图案,用于对所述发光元件供给电力;以及金属化层(metalization layer),包含具有反光性的金属,所述金属化层以对从所述发光元件出射的光进行反射的方式而形成在所述陶瓷基板的内部。
发明内容
在基于借助光的飞行时间的、所谓的飞行时间(Time of Flight,ToF)法来进行被测量物的三维形状的测量的情况下,要求降低对激光部供给驱动电流的电流路径的电感,提高来自激光部的发光的上升速度。
本发明提供一种发光装置等,与从单个种类的电容元件对激光部供给驱动电流的结构相比较,实现驱动电流的上升速度与装置的小型化的兼顾。
根据本发明的第一方案,提供一种发光装置,包括:激光部;以及第一电容元件与第二电容元件,对所述激光部供给驱动电流,所述第一电容元件的等效串联电感比所述第二电容元件小,所述第二电容元件的容量比所述第一电容元件大,搭载面积比所述第一电容元件小。
根据本发明的第二方案,从所述第一电容元件输出并供给至所述激光部的驱动电流直至返回所述第一电容元件为止的第一电流路径长度,比从所述第二电容元件输出并供给至所述激光部的驱动电流直至返回所述第二电容元件为止的第二电流路径长度短。
根据本发明的第三方案,所述第二电流路径长度为所述第一电流路径长度的1.2倍以上。
根据本发明的第四方案,所述第一电容元件配置在比所述第二电容元件靠近所述激光部的位置。
根据本发明的第五方案,所述发光装置具有驱动所述激光部的驱动部,所述第一电容元件配置在比所述第二电容元件靠近所述激光部及所述驱动部的位置。
根据本发明的第六方案,所述发光装置具有驱动所述激光部的驱动部,所述激光部及所述驱动部分别为矩形形状,所述激光部与所述驱动部之间的距离为所述激光部的一边的长度或所述驱动部的一边的长度的2倍以下。
根据本发明的第七方案,所述激光部是在共同的半导体基板上形成有多个面发光激光元件的面发光激光元件阵列。
根据本发明的第八方案,所述发光装置具有使从所述激光部出射的光的方向及扩展角中的至少一者发生变化的光学构件。
根据本发明的第九方案,提供一种光学装置,包括:所述发光装置;以及受光部,接收从所述发光装置所包括的激光部出射并由被测量物予以反射的光,所述受光部输出信号,所述信号相当于从自所述激光部出射直至被所述受光部接收为止的时间。
根据本发明的第十方案,提供一种测量装置,包括:所述光学装置;以及三维形状确定部,基于从所述光学装置所包括的激光部出射并由被测量物予以反射而由所述光学装置所包括的受光部接收的光,来确定所述被测量物的三维形状,所述测量装置对所述被测量物的三维形状进行测量。
(效果)
根据所述第一方案,与从单个种类的电容元件对激光部供给驱动电流的结构相比较,实现驱动电流的上升速度与装置的小型化的兼顾。
根据所述第二方案,与第一电流路径长度比第二电流路径长度长的情况相比较,激光部的上升变快。
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