[发明专利]具有带标记元件的主体的容器及其制造方法

权利要求书

1.一种用于盛放至少一种药物组合物的容器，

所述容器包括主体，

其中所述主体包括在至少一个位置处的至少一个能够用于识别所述容器的标记元件；

其中所述主体的在所述位置处的至少一个应力参数的值小于或等于至少一个阈值；

其中所述阈值得自和/或能够得自至少一次模拟的至少一个模拟结果，所述模拟基于具有或不具有所述标记元件的所述主体的至少一个表面和/或体积区域的应力参数的有限元方法；

其中至少一个平均值通过或能够通过对所述主体的至少一部分所述表面和/或体积区域的所述应力参数的所述模拟来获得；

其中所述阈值是所述平均值与所述平均值的绝对值的1000％以下之和。

2.根据权利要求1所述的容器，其中

所述应力参数是由以下各项组成的组中的至少一个参数：第一主应力、机械诱生拉应力、机械诱生压应力、热生成应力和/或化学生成应力；

优选地，

所述机械诱生拉应力是在使用期间的机械诱生拉应力；

所述机械诱生压应力是在使用期间的机械诱生压应力；

所述热生成应力是拉应力和/或压应力，优选地存在于所述主体的体积和/或表面中；和/或

所述化学生成应力是拉应力和/或压应力，优选地存在于所述主体的体积和/或表面中。

3.根据前述权利要求中任一项所述的容器，

其中所述主体在所述位置处的所述应力参数的值在至少一个状态条件下小于或等于所述阈值，其中优选在所述状态条件下运行所述模拟；

优选地，其中所述状态条件包括：

所述主体的环境压力为1bar；和/或

优选地以所述主体的破裂强度的极限，径向地和/或轴向地向所述主体的至少一部分处施加至少一个力。

4.根据前述权利要求中任一项所述的容器，

其中(i)所述主体的两个或更多个应力参数中的每个参数的值均小于或等于相应的两个或更多个阈值，优选地在完全相同或至少部分不同的两个或更多个状态条件下；和/或(ii)在至少部分不同的两个或更多个状态条件下，所述主体的应力参数的值小于或等于两个或更多个阈值。

5.根据前述权利要求中任一项所述的容器，其中所述主体

至少部分地设计为中空主体和/或管状主体；

具有至少一个封闭端、两个开放端和/或至少一个开口；和/或

具有至少一个内表面，所述内表面在所述容器盛放药物组合物时接触或者能够接触所述组合物；和/或具有至少一个外表面，所述外表面在所述容器盛放药物组合物时不与所述组合物接触，其中所述标记元件的位置延伸跨越所述内表面和/或外表面的至少一个区域。

6.根据前述权利要求中任一项所述的容器，

其中所述标记元件被雕刻到所述主体的至少一个表面、优选地雕刻到所述内表面和/或外表面中，其中所述标记元件位于所述主体的底部(13)、优选地位于所述底部(13)的中心，和/或其中优选地当投影至至少一个2D平面时所述标记元件包括至少一个一维数据代码、至少一个二维数据代码和/或至少一个三维数据代码，优选地通过所述数据代码能够识别所述容器；

优选地，

其中优选地当投影至至少一个2D平面时，所述数据代码包括多个点状元件和/或线状元件，优选地以至少一个矩阵代码的形式，优选为至少一个点矩阵代码。

7.根据前述权利要求中任一项所述的容器，

其中所述标记元件通过和/或能够通过至少一种激光烧蚀技术、至少一种蚀刻技术、优选为至少一种干法蚀刻技术、至少一种光刻技术、至少一种喷砂技术和/或至少一种表面改性技术来制造，而无需先用至少一种激光器烧蚀材料然后再用等离子体进行至少一次处理；和/或

其中所述标记元件能够通过至少一个照相机和/或光来读取，优选地所述光是由至少一个激光器和/或至少一个发光二极管发射的光，优选地所述光具有可见、红外和/或紫外光谱中的波长。