[发明专利]一种基于场景温度非均匀校正的挡片及光路在审
| 申请号： | 202011212844.4 | 申请日： | 2020-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN112595422A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 刘红霞 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 |
| 主分类号： | G01J5/08 | 分类号： | G01J5/08;G02B27/42 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人： | 王鲜凯 |
| 地址： | 471099 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 场景 温度 均匀 校正 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于场景温度非均匀校正的挡片，包括非均匀校正区域1和支撑柄2；其特征在于还包括支撑筒3；非均匀校正区域1的外环为支撑筒3；所述非均匀校正区域1采用具有光焦度的平行平板衍射光学元件；所述支撑筒3采用金属或复合材料。
2.根据权利要求1所述基于场景温度非均匀校正的挡片，其特征在于：所述平行平板衍射光学元件的材料包括但不限于：单晶硅、单晶锗、硒化锌或硫化锌透红外光学材料。
3.根据权利要求1或2所述基于场景温度非均匀校正的挡片，其特征在于：所述平行平板衍射光学元件的材料的适用波长：3μm～5μm、8μm～12μm。
4.一种采用权利要求1或2所述基于场景温度非均匀校正的挡片的光路，其特征在于：按光路走向依次为：物面4、非均匀校正挡片7、红外镜头5和像面6；
光学参数表，单位：mm
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