[发明专利]一种基于场景温度非均匀校正的挡片及光路在审

专利信息
申请号: 202011212844.4 申请日: 2020-11-03
公开(公告)号: CN112595422A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 刘红霞 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
主分类号: G01J5/08 分类号: G01J5/08;G02B27/42
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 471099 *** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 场景 温度 均匀 校正
【说明书】:

发明涉及一种基于场景温度非均匀校正的挡片及光路,基于衍射光学和几何光学原理,采用具有光焦度的平行平板衍射光学元件作为红外系统的非均匀校正挡片。利用具有光焦度的平行平板衍射光学元件进行红外系统非均匀校正时,具有光焦度的平行平板衍射光学元件可以改变红外镜头的物距位置,将正常成像的红外镜头位于无穷远的物距变换为非均匀校正状态下的有限距离远的空气层,空气层经具有光焦度的平行平板衍射光学元件、红外镜头成像到红外探测器焦平面上,然后进行非均匀校正,空气层的温度代表了外景场景的实际温度,实现了基于场景温度的非均匀校正。

技术领域

本发明属于光学技术领域,涉及一种基于场景温度非均匀校正的挡片及使用光路。

背景技术

红外探测技术是一种工作在红外波段(中波:3~5μm、长波:8~12μm),利用场景中不同物体辐射温度的不同和差异进行的热探测技术,可工作在昼夜及雾、霾、烟雾、沙尘等不良气候条件下,可以大大扩展人眼的视觉性能。

红外探测技术的核心是将接收到的场景热辐射转换为电信号的各种红外探测器。虽然同一个红外探测器焦平面阵列上的感光元件由相同的材料制作而成,但由于生产材料的不均匀性以及制作工艺的不同,探测单元之间普遍存在着差异性,所以,当接收到相同的均匀辐射时,不同探测单元的响应输出是不同的,这就是产生红外探测器焦平面阵列非均匀性的根本原因。非均匀性是一种普遍存在的噪声,它以固定图案噪声的形式叠加在图像上,这种噪声即为红外焦平面阵列的非均匀性。它严重影响了红外系统的成像质量,使目标图像很难从背景中分辨出来,这就限制了红外焦平面阵列的性能,也限制其在军事和民用方面的应用。

目前,针对这一问题最常用的方法就是在红外系统设计中增加挡片校正机构,以挡片作为参考辐射源进行图像的非均匀性校正,固化图像非均匀校正系数,从而提高红外系统的成像质量。这种挡片校正机构中的挡片的基底通常是采用金属材料或复合材料制作,然后在其表面喷涂消光材料使其表面形成漫反射涂层,漫反射涂层表面温度尽可能均匀。

采用这种校正方法的缺点是当红外系统工作在温度变化较大的环境条件下,挡片本身温度不均匀并且与外界场景温度差异较大,导致非均匀性校正后的画面仍然存在较大的图像噪声,严重影响图像质量。

发明内容

要解决的技术问题

为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种基于场景温度非均匀校正的挡片及光路,采用具有光焦度的平行平板衍射光学元件作为红外非均匀校正挡片的设计,实现了基于场景温度的非均匀校正,解决了挡片本身温度不均匀以及校正温度与场景温度差异较大的问题,提升了红外系统图像质量。

技术方案

一种基于场景温度非均匀校正的挡片,包括非均匀校正区域1和支撑柄2;其特征在于还包括支撑筒3;非均匀校正区域1的外环为支撑筒3;所述非均匀校正区域1采用具有光焦度的平行平板衍射光学元件;所述支撑筒3采用金属或复合材料。

所述平行平板衍射光学元件的材料包括但不限于:单晶硅、单晶锗、硒化锌或硫化锌透红外光学材料。

所述平行平板衍射光学元件的材料的适用波长:3μm~5μm、8μm~12μm。

适用的红外镜头通光口径范围为:φ8mm~φ35mm。

一种采用所述基于场景温度非均匀校正的挡片的光路,其特征在于:按光路走向依次为:物面4、非均匀校正挡片7、红外镜头5和像面6;

光学参数表,单位:mm

有益效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所,未经中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011212844.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top