[发明专利]抗蚀剂组成物及图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：

(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且不含具有芳香族取代基的重复单元的树脂，

(B)通式(B-1)表示的光酸产生剂，及

(C)溶剂；

式中，W₁表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基；W₂表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基；Rf为上述通式表示的2价有机基团，A₁、A₂分别独立地表示氢原子或三氟甲基，B₁、B₂分别独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基，*表示和羰基氧基的原子键；m表示0～4，n表示0～1的整数；M⁺表示鎓阳离子。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的W₁为碳数6～12的含有内酯环结构的环状2价烃基。

3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的W₂为碳数7～14的不含杂原子的多环状1价烃基。

4.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，其中，该通式(B-1)中的Rf基团选自于下式(Rf-1)～(Rf-6)表示的基团；

*表示和氧基羰基的原子键。

5.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂组成物，更含有(D)成分，是和(A)成分的树脂不同的树脂，且是具有选自于下式(D-1)、(D-2)及(D-3)表示的重复单元中的至少1种的含氟树脂；

式中，R^A分别独立地为氢原子或甲基；R₅₁及R₅₂分别独立地为氢原子、或直链状或分支状或环状的碳数1～10的1价烃基；R₅₃为单键、或直链状或分支状的碳数1～5的2价烃基；R₅₄、R₅₅及R₅₆分别独立地为氢原子、或直链状或分支状或环状的碳数1～15的1价烃基、氟化1价烃基或酰基、或酸不稳定基团；R₅₄、R₅₅及R₅₆为1价烃基或氟化1价烃基时，它们的一部分碳原子也可经醚基或羰基取代；R₅₇为直链状或分支状或环状的碳数1～20的(v+1)价的烃基或氟化烃基；v为1～3的整数。

6.一种图案形成方法，其特征为包含下列步骤：

将根据权利要求1至5中任一项所述的抗蚀剂组成物涂布于基板上并进行加热处理来形成抗蚀剂膜，

将该抗蚀剂膜以高能射线进行曝光，及

使用显影液将曝光后的抗蚀剂膜进行显影。

7.根据权利要求6所述的图案形成方法，其中，该高能射线为波长193nm的ArF准分子激光或波长248nm的KrF准分子激光。

8.根据权利要求6或7所述的图案形成方法，其中，该曝光是使折射率1.0以上的液体插入到抗蚀剂膜与投影透镜之间来实施的浸润式曝光。

9.根据权利要求8所述的图案形成方法，其于该抗蚀剂膜之上进一步形成保护膜，并使该液体插入到该保护膜与投影透镜之间来实施浸润式曝光。

10.根据权利要求6所述的图案形成方法，其中，该高能射线为电子束或波长3～15nm的极紫外线。