[发明专利]连续镀膜设备和连续镀膜方法

权利要求书

1.一连续镀膜设备，适于为待镀膜样品镀膜，其特征在于，包括：

一放电装置；

一进料装置；

一抽真空装置；

一工作腔体，其中所述工作腔体具有一工作腔；以及

至少一辅助腔体，其中所述辅助腔体能够形成有一个辅助腔，所述辅助腔用于转移样品，其中所述放电装置用于向所述工作腔体的所述工作腔放电，其中所述进料装置用于向所述工作腔体的所述工作腔进料，所述工作腔体和所述辅助腔体被真空度可控地连接于所述抽真空装置，其中每一所述辅助腔体和所述工作腔体之间具有一封闭状态和一连通状态并且被可操作地在所述封闭状态和所述连通状态之间变换，在所述连通状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间能够进行样品转移并且保持和外界封闭，在所述封闭状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间保持独立，其中在所述封闭状态，至少一个被放置有该待镀膜样品的所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以转移该待镀膜样品做好准备，至少一个所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以承接来自于所述工作腔体的样品做好准备，以使得所述工作腔体在所述封闭状态和所述连通状态之间变换时真空度能够被控制在预设范围内，从而所述工作腔体能够连续作业。

2.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个，一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述入口位置，另一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述出口位置，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之前，设置于所述工作腔体的所述入口位置的被装载有该待镀膜样品的所述辅助腔体和设置于所述工作腔体的所述出口位置的所述辅助腔体被分别抽真空至预设范围，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之后，两个所述辅助腔体分别变换为所述连通状态，以使得所述工作腔体内的该样品被转移至位于所述出口位置的所述辅助腔体，位于所述入口位置的所述辅助腔体内的该样品被转移至所述工作腔体，以连续地进行镀膜。

3.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个并且分别被实施为第一辅助腔体和第二辅助腔体，其中所述第一辅助腔体具有一第一辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，所述第二辅助腔体具有一第二辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，其中所述第一辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换，所述第二辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换。

4.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一镀膜腔体，其中所述镀膜腔体包括至少两个可移动隔板和一镀膜围壁，其中所述工作腔形成于所述可移动隔板之间，所述辅助腔体形成于所述移动隔板和所述镀膜围壁之间。

5.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一缓冲腔体，其中所述缓冲腔体具有一缓冲腔，所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体的所述缓冲腔，所述辅助腔体被可连通地连接于所述缓冲腔体。

6.根据权利要求5所述的连续镀膜设置，其中所述连续镀膜设备进一步包括一装载装置，其中所述装载装置适于装载该待镀膜样品，所述辅助腔体连通于所述缓冲腔体，所述装载装置适于自所述辅助腔体的所述辅助腔移动至所述缓冲腔体的所述缓冲腔，然后所述装载装置适于自所述缓冲腔体的所述缓冲腔被移动至所述工作腔体的所述工作腔。

7.根据权利要求6所述的连续镀膜装置，其中所述缓冲腔体被可连通地连接于所述进料装置，所述进料装置适于所述缓冲腔体供料以使得所述工作腔内外皆能够获得原料供应。

8.根据权利要求1至4任一所述的连续镀膜装置，其中所述连续镀膜设备进一步包括至少一个装载装置，其中所述装载装置包括一移动单元和一转架，其中所述转架被可带动以移动地支撑于所述移动单元，其中所述该样品适于被安装于所述转架并且跟随所述转架一同运动。