[发明专利]连续镀膜设备和连续镀膜方法

说明书

本发明提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述连续镀膜设备包括一辅助腔体和一工作腔体，通过对于所述辅助腔体预抽真空可以使得样品自所述辅助腔体被直接运输至所述工作腔体，所述工作腔体由于不需要和外部环境连通因此可以维持在预设的真空度，从而使得整个镀膜过程连续化。

技术领域

本发明涉及到真空镀膜设备技术领域，特别涉及到一种连续镀膜设备和连续镀膜方法。

背景技术

目前的真空镀膜设备通常是有一个真空腔体和相关的抽气系统、进料系统组成的，待处理样品被放置在所述真空腔体内以在后续步骤中进行处理。处理完毕的样品离开所述真空腔体，然后下一批次的待处理样品被放入到所述真空腔体中，从而完成对于多批次的待镀膜样品的处理。

真空镀膜技术对于真空度有着较高的要求，这意味着在待处理样品进入到所述真空腔体后，所述真空腔体需要进行一定时间的抽真空处理，而在处理完毕的样品离开所述真空腔体之后，所述真空腔体需要再次进行抽真空处理，以达到真空镀膜要求的真空度。

另外，真空镀膜设备内一般被设置有转架以带动样品运动，运动的转架一方面有利于搅动所述真空腔体内的原料气体以使得所述真空腔体内的气体分布均匀，另一方面带动样品运动以使得样品均匀地和所述真空腔体内的气体接触，以使得镀膜均匀。然而在单一腔体导致样品在进出时需要开关门，导致所述真空腔体内的气压上升，一方面延长了真空镀膜设备的处理时间，降低了生产效率，另一方面可能导致样品的差异性增大，从而不利于最后产品的质量。详细地说，在一次镀膜过程中，大多数时间是用于等待真空镀膜设备的所述真空腔体的真空度达到预设数值，真正镀膜的时间较短，而在所述真空腔体内的等离子体的分布本身就不均匀，这会影响到同一批次的样品的品质。

发明内容

本发明的一优势在于提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述连续镀膜设备可以节约抽真空的时间，从而提高生产效率。

本发明的另一优势在于提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述连续镀膜设备包括一个工作腔体和可以形成至少一个辅助腔体，其中所述辅助腔体可以被事先抽真空，以降低等待所述工作腔体的抽真空的时间，其中样品可以被放置在所述辅助腔体中，然后被传输至所述工作腔体。

本发明的另一优势在于提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述辅助腔体的数目可以是两个，一个是前置腔体，另一个是后置腔体，所述前置腔体供放置待处理样品并且被控制在预设真空度，以使得被放置于所述前置腔体的样品可以被快速地转移到所述工作腔体，所述后置腔体被控制在预设真空度以供放置镀膜完毕的样品，以使得所述工作腔体内的真空度不需要进行大幅波动，从而节约所述工作腔体的真空度变化的控制时间。

本发明的另一优势在于提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述辅助腔体的数目是至少两个，所述前置腔体和所述后置腔体的位置能够互换，以有利于所述连续镀膜设备的连续化作业。

本发明的另一优势在于提供一连续镀膜设备和连续镀膜方法，其中所述连续镀膜设备提供一缓冲腔体，其中所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体内，所述缓冲腔体能够为所述工作腔体和外界提供缓冲。

根据本发明的一方面，本发明提供了一连续镀膜设备，适于为待镀膜样品镀膜，其中所述连续镀膜设备包括：

一放电装置；

一进料装置；

一抽真空装置；

一工作腔体，其中所述工作腔体具有一工作腔；以及