[发明专利]一种瞬态毒侵探测系统及方法

权利要求书

1.一种瞬态毒侵探测系统，其特征在于，包括：

样品靶室，用于盛放被测样品；

第一脉冲光调制器，用于调制所接收的激光信号源发出的激光信号；

偏振分束器，用于接收经所述第一脉冲光调制器调制后的激光信号，并对调制后的激光信号分束，得到与所述激光信号方向相同的第一偏振激光和与所述激光方向不同的第二偏振激光；并使所述第一偏振激光入射到所述样品靶室内，使所述第二偏振激光经信息处理器的第一输入端进入所述信息处理器；

第二脉冲光调制器，用于调制所接收的泵浦信号源发出的泵浦激光；

偏振片，用于接收经所述第二脉冲光调制器调制后的泵浦激光，并对调制后的泵浦激光产生偏振作用，得到偏振泵浦激光，使所述偏振泵浦激光入射到所述样品靶室内；

所述被测样品经所述第一偏振激光和所述偏振泵浦激光冲击得到荧光，所述荧光经所述信息处理器的第二输入端进入所述信息处理器；

所述信息处理器分别以第二偏振激光和荧光作为二阶关联函数的输入，利用二阶关联函数探测出被测样品的瞬态毒侵过程；

所述利用二阶关联函数探测出被测样品的瞬态毒侵过程具体为：

设定二阶关联函数的表达式为：

公式(1)中的E^*(t)表示t时刻的共轭场振幅，E^*(t+τ)表示t+τ时刻的共轭场振幅，E(t+τ)表示t+τ时刻的场振幅，E(t)表示t时刻的场振幅，*表示共轭；

I(t)表示t时刻的光强度；

I(t+τ)表示t+τ时刻的光强度；

公式(2)中的I(r,t)表示空间坐标r在t时刻的光强度；

r₁、r₂分别表示接收的第二偏振激光和荧光的空间坐标；

t₁、t₂分别表示接收的第二偏振激光和荧光的时间坐标；

表示第二偏振激光在t₁时刻，空间坐标为r₁的场振幅，表示第二偏振激光在t₁时刻，空间坐标为r₁的场共轭振幅；表示荧光在t₂时刻，空间坐标为r₂的场振幅，表示荧光在t₂时刻，空间坐标为r₂的场共轭振幅；

表示密度算符；

ψ_f表示量子系统末态的狄拉克量子态；

Tr()表示迹函数；

当激光信号或泵浦激光的参数改变时，公式(1)和(2)的值对应变化，反映被测样品在瞬态毒侵过程中的变化情况；通过观察二阶关联函数值的变化，实现对被测样品瞬态毒侵过程的探测。

2.根据权利要求1所述的瞬态毒侵探测系统，其特征在于，所述样品靶室包括：

样品台，位于样品靶室内部，用于承载并垫高所述被测样品；

第一入射窗，第一偏振激光经第一入射窗直射被测样品；

第二入射窗，偏振泵浦激光经第二入射窗直射被测样品；

至少一个出射窗，用于使所述信息处理器的第二输入端接收所述荧光；

所述第一入射窗、第二入射窗和出射窗均位于所述样品靶室的侧壁；

输入口，位于所述样品靶室的顶部，用于将被测样品放入到所述样品台上。

3.根据权利要求1所述的瞬态毒侵探测系统，其特征在于，还包括反射镜组；

所述反射镜组包括第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜和第四反射镜；

所述第一偏振激光以非直角入射到所述第一反射镜，再经所述第一反射镜反射，得到第一反射激光；

所述第一反射激光以非直角入射到所述第二反射镜，再经所述第二反射镜反射，得到第二反射激光；

所述第二反射激光以非直角入射到所述第三反射镜，再经所述第三反射镜反射，得到第三反射激光；

所述第三反射激光以非直角入射到所述第四反射镜，再经所述第四反射镜反射，得到第四反射激光；第四反射激光直射所述被测样品。